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| Brand Name: | Chitherm |
| Model Number: | HRF512-07N |
| MOQ: | 1 |
| Price: | 交渉可能 |
| Delivery Time: | カスタマイズ |
| Payment Terms: | カスタマイズ |
I. 基本的な設備情報
型番: HRF512-07N
目的: 主に、半導体、電子部品、または関連材料の乾燥、硬化、脱脂などの熱処理プロセスに使用されます。特に、材料の高温酸化を防ぐために窒素保護雰囲気下での操作に適しています。
システム構成: 上位コンピュータとしてMCGSタッチスクリーン、下位コンピュータとして日本製のYamatake C1AおよびC1M温度コントローラーとSiemens PLCを採用し、安定した信頼性の高い制御システムを形成しています。
| 納品リスト | |||
| 項目 | 備考 | 数量 | |
| 基本構成 | 乾燥機 | 1個 | |
| 検査証明書 | 乾燥機および主要購入部品 | 1セット | |
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電気精製炉 |
排ガス処理用 |
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| 技術文書 | 取扱説明書、主要購入部品の技術文書など | 1セット | |
| 主要部品 | ステンレス鋼ヒーター | 1セット | |
| 温度コントローラー | 2セット | ||
| タッチスクリーン | 1セット | ||
| 循環ファン | 1セット | ||
| スペア | SSR | 1個 | |
| ステンレス鋼ヒーター | 1セット | ||
| シールガスケット | 2セット | ||
II. 主な技術パラメータ
動作温度範囲: 室温（RT）から650℃まで。これは標準的な動作温度範囲です。
最大試験温度: 最大700℃までですが、機器の長期的な安定動作を確保するために、一般的には650℃を超えないことが推奨されます。
炉の寸法（内部）: 800 × 800 × 800 mm（幅 × 高さ × 奥行き）。
温度ゾーン数: 1つの温度ゾーンで、均一な単一ゾーン加熱空間を提供します。
温度制御点: 正確な温度調整のための1つの制御点。
加熱方法: ステンレス鋼ヒーターを加熱素子として使用し、高温耐性、耐酸化性、長寿命が特徴です。
最大加熱電力: 36 kWを超えません。
炉内温度均一性: 650℃の条件下で、空炉安定化後1時間で、温度均一性は±5℃です。
断熱材: 完全ファイバー材で、優れた断熱性を持ち、熱損失を最小限に抑えます。
空気供給方法: 遠心ファンが熱風を循環させ、炉内の温度均一性を高めます。
温度制御システム: Yamatake温度コントローラーを中心に、Siemens PLCと組み合わせて、長時間の連続使用に適した安定したシステム動作を保証します。
上位コンピュータシステム: MCGS構成タッチスクリーンを搭載し、ユーザーフレンドリーなインターフェース、直感的な操作、リアルタイムデータ監視とパラメータ設定のサポートが特徴です。
制御のリアルタイム性能: 上位コンピュータと温度制御モジュール間の強力なリアルタイムデータ通信により、正確な温度制御と安定したシステム動作が保証されます。
III. ガスおよび冷却システム
入口ガス（窒素）の要件:
• ガスタイプ: 高純度窒素（N2）
• 窒素純度: ≧99.999%（つまり、5Nグレード）
• 入口圧力: 0.2～0.4 MPa
• 窒素消費量: 約10 m³/h
冷却方法: 機器は自然炉冷却を採用しており、能動的な強制冷却（水冷または空冷など）はありません。高温運転後、自然冷却が必要であり、冷却時間は合理的に計画する必要があります。
給水要件（水冷部品を装備している場合）:
• 水質: 清浄で非腐食性
• 水温: ≦23℃
• 水圧: 0.2～0.4 MPa
• 水流量: 約2～6 L/min
（注：すべての機器に水冷システムが装備されているわけではありません。実際のモデルに基づいて確認してください。）
換気システム: ユーザーの排気システムへの非接触接続が必要で、15 m³/h以上の排気能力があり、炉排気または保護ガスの排出に使用されます。
IV. 電源と電気的条件
電源: 三相五線式、電圧220/380 V、周波数50 Hz。
電力容量: 機器の動作に必要な電力容量は50 kVAを超える必要があります。
電源ケーブルの色分け（三相五線標準）:
• 活線（L1/L2/L3）：黄色、緑色、赤色
• 中性線（N）：青色
• 接地線（PE）：黄緑色
電源要件: 電圧変動が最小限の工業グレードの安定した電源を使用する必要があります。停電や電圧の不安定さが機器の動作とプロセス品質に影響を与えるのを避けるために、電圧安定器または過電流保護装置を取り付けることを推奨します。
V. 設置環境とサイト要件
周囲温度: 0～40℃。この範囲外の温度は、機器の性能と制御精度に影響を与える可能性があります。
相対湿度: 80% RH未満で、結露がないこと。湿気が電気部品に影響を与えるのを避けるため。
周囲ガス: 腐食性ガス、可燃性/爆発性物質、または強酸/アルカリ蒸気がないこと。
気流環境: 強風や振動干渉がないこと。安定した環境を維持してください。
床の要件: 水平で頑丈で、大きな振動がないこと。耐荷重能力は300 kg/m²を超えること。
推奨設置寸法: 2000 mm（幅）×3000 mm（奥行き）×3000 mm（高さ）。
最小設置面積: 6 m²以上で、機器周辺の操作とメンテナンスに十分なスペースを確保してください。
換気と排気: サイトは良好な排気条件を備え、ユーザーの排気システムに接続して、炉ガスのタイムリーな排出を確保し、安全な動作環境を維持する必要があります。
VI. 制御システムの機能
上位コンピュータ: MCGSタッチスクリーンを使用し、構成ベースのソフトウェアを備え、直感的なインターフェースで操作が簡単です。温度監視、パラメータ設定、ステータス表示、アラーム機能をサポートしています。
下位コンピュータ: Yamatake C1AおよびC1M温度コントローラーとSiemens PLCで構成され、正確な温度制御とシステムロジックを実現し、自動化と安全性を強化します。
データ収集と制御: システムは温度データをリアルタイムで収集し、制御コマンドに迅速に対応し、長時間の中断のない操作のための安定した一貫した温度制御を保証します。
システムの安定性: 全体的な制御システムは、産業用の連続生産環境に適した、信頼性の高い低故障動作のために最適化されています。
合肥Chitherm Equipment Co., Ltd.は、高温、中温、低温の工業炉および実験炉の研究開発、設計、製造、販売、メンテナンス、サービスを専門とする高度な機器サプライヤーです。その製品範囲には、ベル炉、箱型炉、熱風炉、真空炉、管状炉、メッシュベルト炉、台車炉、ロータリー炉、ローラーハース炉、プッシャー炉が含まれており、高度セラミックス、電子部品、厚膜回路、付加製造、粉末冶金、新エネルギー、太陽光発電などの分野で広く使用されています。これらの炉は、ITOターゲット、MLCC/HTCC/LTCC、セラミックフィルター、磁性材料、CIM/MIM、リチウム電池の正極と負極などの材料の熱処理プロセス、および予備焼結、脱ロウ、脱脂、焼結、乾燥、熱処理、硬化、セラミック化などのさまざまな新しい材料プロセスに適しています。
1. Chithermはどのような製品を提供していますか？
当社は、高品質のベル炉、熱風炉、箱型炉、管状炉、真空炉、カーボトム炉、ロータリーキルン、メッシュベルト炉、プッシャー炉を顧客に提供しています。
2. Chithermはどのようなプリセールスサービスを提供していますか？
お客様が最適な製品を選択できるよう、タイムリーなコンサルティングサービスを提供し、お客様の特定の要件を満たす高度にカスタマイズ可能なソリューションを提供しています。
3. Chithermのコアな強みは何ですか？
研究開発、製造、販売を統合したハイテク企業として、Chithermは優れたソリューションを提供する特許技術とコアリソースを所有しています。
