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dettagli dei prodotti

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Forno di essiccazione dell'aria calda
Created with Pixso. Forno ad aria calda compatto e versatile con camera da 800*800*800mm per applicazioni industriali

Forno ad aria calda compatto e versatile con camera da 800*800*800mm per applicazioni industriali

Marchio: Chitherm
Numero di modello: HRF512-07N
MOQ: 1
Prezzo: Negoziabile
Tempi di consegna: Personalizzato
Termini di pagamento: Personalizzato
Informazioni Dettagliate
Luogo di origine:
Cina
Gamma di applicazioni:
Industriale
Tipo:
Fornace di tenuta elettrica
Utilizzo:
Essiccazione in ceramica
Carburante:
Elettrico
Atmosfera:
Azoto
Dimensioni della camera efficaci:
800*800*800mm ((W*H*D)
Tipo di termocoppia:
Tipo K
Pacchetto di trasporto:
Imballaggio in legno
Specifiche:
1500*1930*2000mm (W*H*D)
Marchio:
CHITHERM
Origine:
Cina
Codice HS:
8514101000
Capacità di alimentazione:
50 set/anno
Personalizzazione:
Disponibile
Certificazione:
ISO
Place Style:
Verticale
Imballaggi particolari:
Personalizzato
Capacità di alimentazione:
Personalizzato
Evidenziare:

Forno ad aria calda compatto

,

Forno a muffola versatile

,

Forno di sformatura ad azoto con camera da 800*800*800mm

Descrizione del prodotto

Informazioni di base

Modello NO.
HRF512-07N
Gamma di applicazioni
Industriale
Tipo
Forno elettrico di mantenimento
Utilizzo
Essiccazione ceramica
Combustibile
Elettrico
Atmosfera
Azoto
Dimensioni effettive della camera
800*800*800mm(L*A*P)
Tipo di termocoppia
Tipo K
Stabilità del controllo della temperatura
±1℃
Temperatura nominale
650℃
Aumento della temperatura superficiale
≤35℃
Velocità di riscaldamento
≤5℃/Min
Peso totale
Circa 1200 kg
Pacchetto di trasporto
Imballaggio in legno
Specifica
1500*1930*2000mm(L*A*P)
Marchio
Chitherm
Origine
Cina
Codice HS
8514101000
Capacità di produzione
50 set/anno

Imballaggio e consegna

Dimensione del pacco
151,00 cm * 194,00 cm * 201,00 cm
Peso lordo del pacco
1200.000 kg

Descrizione del prodotto

Descrizione del prodotto

I. Informazioni di base sull'apparecchiatura

  1. Modello: HRF512-07N

  2. Scopo: Adatto per l'essiccazione, l'indurimento, la degommatura e altri processi di trattamento termico di semiconduttori, componenti elettronici e materiali correlati, particolarmente adatto per il funzionamento in atmosfera protettiva di azoto per prevenire l'ossidazione ad alta temperatura dei materiali.

  3. Composizione del sistema: Utilizzo di un touch screen MCGS come computer superiore, controller di temperatura Yamatake C1A e C1M e PLC Siemens come computer inferiore per formare un sistema di controllo stabile e affidabile.

Foto dettagliate

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Parametri del prodotto

II. Principali parametri tecnici

  1. Intervallo di temperatura di esercizio: Temperatura ambiente (RT) a 650°C, che copre i requisiti di temperatura del processo convenzionale.

  2. Temperatura massima di prova: Fino a 700°C, sebbene non sia raccomandato un funzionamento prolungato a questa temperatura. La temperatura di esercizio consigliata non deve superare i 650°C.

  3. Dimensioni della camera del forno (interne): 800 × 800 × 800 mm (L × A × P), adatta per la lavorazione di pezzi di medie dimensioni.

  4. Numero di zone di riscaldamento: 1 zona, il che significa che l'intera camera funge da area di riscaldamento uniforme.

  5. Punti di controllo della temperatura: 1 punto di controllo per una precisa regolazione della temperatura.

  6. Metodo di riscaldamento: Utilizza elementi riscaldanti in acciaio inossidabile, che offrono resistenza alle alte temperature, resistenza all'ossidazione e lunga durata.

  7. Potenza massima di riscaldamento: ≤36 kW, soddisfacendo le esigenze di riscaldamento rapido ottimizzando al contempo l'efficienza energetica.

  8. Uniformità della temperatura: In condizioni di 650°C, dopo 1 ora di stabilizzazione del forno vuoto, l'uniformità della temperatura è ±5°C, soddisfacendo la maggior parte dei requisiti di processo per la consistenza.

  9. Materiale isolante: Costruzione interamente in fibra con eccellente isolamento termico, che riduce al minimo la perdita di calore e migliora l'efficienza.

  10. Circolazione dell'aria: Una ventola centrifuga assicura una distribuzione uniforme del calore, migliorando le prestazioni di riscaldamento.

  11. Sistema di controllo della temperatura: Dispone di un controller Yokogawa (Giappone) abbinato a un PLC Siemens per un controllo della temperatura preciso e stabile, adatto per un funzionamento continuo a lungo termine.

III. Sistema gas e raffreddamento

  1. Azoto (N2) Requisiti di alimentazione:

    • Tipo: Azoto ad alta purezza (N2)

    • Purezza: ≥99,999% (grado 5N)

    • Pressione di ingresso: 0,2-0,4 MPa

    • Portata: ~10 m³/h

    • Scopo: Fornisce un'atmosfera inerte per prevenire l'ossidazione, ideale per processi sensibili come la combustione del legante e la sinterizzazione.

  2. Metodo di raffreddamento: Raffreddamento naturale del forno; non è integrato alcun raffreddamento forzato attivo (ad es. raffreddamento ad acqua/aria). Il raffreddamento post-operazione richiede tempi di inattività pianificati.

  3. Alimentazione idrica (se sono installati componenti raffreddati ad acqua):

    • Qualità: Pulita, non corrosiva

    • Temperatura: ≤23°C

    • Pressione: 0,2-0,4 MPa

    • Portata: ~2-6 L/min

    • Nota: Non tutte le unità includono il raffreddamento ad acqua; verificare in base alla configurazione effettiva.

  4. Sistema di scarico: Richiede il collegamento a un sistema di estrazione esterno (senza contatto), con una capacità >15 m³/h per evacuare lo scarico/azoto del forno, garantendo la sicurezza operativa.

IV. Requisiti di alimentazione ed elettrici

  1. Alimentazione: Sistema trifase, a 5 fili; tensione 220/380 V, 50 Hz.

  2. Capacità di alimentazione: Richiesta totale >50 kVA; si consiglia una capacità in eccesso per un'alimentazione stabile.

  3. Codici colore del cablaggio:

    • Fili di fase (L1/L2/L3): Giallo, verde, rosso

    • Neutro (N): Blu

    • Terra (PE): Giallo-verde

  4. Qualità dell'alimentazione: Stabilità di livello industriale con minime fluttuazioni di tensione per evitare interruzioni che influiscono sulle prestazioni.

V. Ambiente di installazione e requisiti del sito

  1. Temperatura ambiente: 0-40°C; le deviazioni possono influire sulle prestazioni.

  2. Umidità: <80% UR, senza condensa per proteggere i componenti elettrici.

  3. Atmosfera: Priva di sostanze corrosive, infiammabili o esplosive e vapori di acidi/alcali forti.

  4. Flusso d'aria: Minime correnti d'aria o vibrazioni per mantenere la stabilità.

  5. Specifiche del pavimento:

    • Livellato, robusto, resistente alle vibrazioni

    • Capacità di carico >300 kg/m²

  6. Dimensioni del sito consigliate: 2000 × 3000 × 3000 mm (L × P × A); area minima >6 m².

  7. Requisiti di spazio: Spazio sufficiente per il funzionamento della porta, il flusso di lavoro e l'accesso alla manutenzione.

VI. Caratteristiche del sistema di controllo

  1. HMI: Touchscreen MCGS con interfaccia intuitiva per la visualizzazione della temperatura, l'impostazione dei parametri, il monitoraggio dello stato e gli allarmi.

  2. Controller:

    • Temperatura: Moduli Yokogawa C1A/C1M (Giappone) per la precisione

    • Logica: PLC Siemens per l'automazione e la sicurezza

  3. Acquisizione e controllo dei dati:

    • Elaborazione del segnale di temperatura in tempo reale

    • Comunicazione stabile tra HMI e moduli

    • Elevata affidabilità per il funzionamento industriale continuo


Certificazioni

Forno ad aria calda compatto e versatile con camera da 800*800*800mm per applicazioni industriali 3

Imballaggio e spedizione

Forno ad aria calda compatto e versatile con camera da 800*800*800mm per applicazioni industriali 4

Profilo aziendale

Hefei Chitherm Equipment Co., Ltd. è un fornitore di apparecchiature avanzate specializzato nella ricerca e sviluppo, progettazione, produzione, vendita, manutenzione e assistenza di forni industriali e da laboratorio ad alta, media e bassa temperatura. La sua gamma di prodotti comprende forni a campana, forni a scatola, forni ad aria calda, forni sottovuoto, forni tubolari, forni a nastro trasportatore, forni a carrello, forni rotativi, forni a rulli e forni a spinta, che vengono ampiamente applicati in settori come ceramiche avanzate, componenti elettronici, circuiti a film spesso, produzione additiva, metallurgia delle polveri, nuove energie e fotovoltaico. Questi forni sono adatti per processi di trattamento termico di materiali tra cui target ITO, MLCC/HTCC/LTCC, filtri ceramici, materiali magnetici, CIM/MIM e catodi e anodi per batterie al litio, nonché vari altri nuovi processi di materiali come pre-sinterizzazione, deceratura, sgrassaggio, sinterizzazione, essiccazione, trattamento termico, indurimento e ceramizzazione.

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I nostri vantaggi

Forno ad aria calda compatto e versatile con camera da 800*800*800mm per applicazioni industriali 6

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FAQ

1. Quali prodotti offre Chitherm?
Forniamo ai clienti forni a campana, forni ad aria calda, forni a scatola, forni tubolari, forni sottovuoto, forni a fondo carrello, forni rotativi, forni a nastro trasportatore e forni a spinta di alta qualità.
2. Quali servizi di prevendita offre Chitherm?
Offriamo servizi di consulenza tempestivi per aiutare i clienti a selezionare i prodotti più adatti, insieme a soluzioni altamente personalizzabili per soddisfare le vostre esigenze specifiche.
3. Quali sono i punti di forza principali di Chitherm?
In qualità di azienda high-tech che integra ricerca e sviluppo, produzione e vendita, Chitherm possiede tecnologie brevettate e risorse fondamentali per fornire soluzioni superiori.