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| Brand Name: | Chitherm |
| Model Number: | HWF100-10NH |
| MOQ: | 1 |
| Price: | Negociable |
| Delivery Time: | Personalizado |
| Payment Terms: | Personalizado |
| Atributo | Valor |
|---|---|
| Proceso de dar un título | ISO |
| Estilo de lugar | Vertical |
| Gama de aplicaciones | Industrial |
| Tipo | Horno de retención eléctrico |
| Uso | Sinterización Cerámica |
| Combustible | Eléctrico |
| Atmósfera | Nitrógeno/hidrógeno |
| Dimensiones efectivas de la cámara | 500*500*650 mm (ancho x alto x profundidad) |
| Paquete de transporte | Embalaje de madera |
| Especificación | 1500*1950*2200 mm (ancho x alto x profundidad) |
| Marca | Chitherm |
| Origen | Porcelana |
| Código HS | 8514101000 |
| Capacidad de suministro | 50 juegos/año |
| Personalización | Disponible |
Modelo:HWF100-10NH
Solicitud:Diseñado para el tratamiento térmico a temperatura media de productos electrónicos, incluidas cerámicas electrónicas, materiales dieléctricos y conductores, bajo atmósferas protectoras de nitrógeno/hidrógeno.
| Artículo | Especificación |
|---|---|
| Temperatura de funcionamiento | Hasta 900°C |
| Temperatura máxima | 1000°C |
| Tamaño efectivo de la cámara del horno | 400 × 400 × 650 mm (Ancho × Alto × Fondo) |
| Elemento calefactor | Calentador de fibra cerámica FEC (alta eficiencia, ahorro de energía, larga vida útil) |
| Atmósfera de proceso | Nitrógeno / Hidrógeno (apto para tratamiento térmico en atmósfera protectora) |
| Sistema de escape | Puerto de escape ubicado en la parte superior de la cámara del horno para control de la atmósfera y ventilación de seguridad. |
| Método de enfriamiento | Enfriamiento natural dentro del horno (adecuado para procesos que no requieren enfriamiento rápido) |
| Puntos de control de temperatura | 3 puntos de control independientes (delantero, medio, trasero) para mejorar la uniformidad de la temperatura |
| Segmentos de control de temperatura | 9 segmentos programables (admite procesos complejos de tratamiento térmico) |
| Estabilidad de temperatura | ±1°C (control de alta precisión) |
| Controlador de temperatura | Controlador de temperatura de programa inteligente Yokogawa (Japón) con función de autoajuste PID |
| Uniformidad de temperatura | Mejor que ±5°C (probado a 900°C durante 1 hora en un horno vacío) |
| Método de control | Pantalla táctil + control centralizado PLC (fácil de usar y altamente automatizado) |
| Protección de alarma | Sobretemperatura, rotura de termopar y otras alarmas audiovisuales; incluye protección de corte de energía por exceso de temperatura; sonido de alarma fuerte para alertas de seguridad |
| Aumento de la temperatura de la superficie | ≤35°C (garantiza un funcionamiento seguro y una mínima emisión de calor externo) |
| Potencia máxima de calefacción | 30 kilovatios |
| Poder de retención | ≤15 kW (diseño energéticamente eficiente) |
| Requisito de fuente de alimentación | Capacidad >40 kVA, trifásico 5 hilos, 220/380 VCA, 50 Hz |
| Dimensiones totales (referencia) | 1500 × 1950 × 2200 mm (Ancho × Alto × Fondo) |
| Artículo | Nota | Cant. |
|---|---|---|
| Componentes básicos | Horno | 1 JUEGO |
| Certificado de inspección | Certificado de principales componentes subcontratados | 1 JUEGO |
| Documentos Técnicos | Instrucciones, documentos técnicos de las principales piezas subcontratadas, etc. | 1 JUEGO |
| Componentes clave | Analizador de microoxígeno | 1 JUEGO |
| Controlador de temperatura | 1 JUEGO | |
| Par termoeléctrico | Tipo K | 3 piezas |
| Piezas de repuesto | RSS | 1 unidad |
Hefei Chitherm Equipment Co., Ltd. es un proveedor de equipos avanzados que se especializa en la investigación y desarrollo, diseño, fabricación, venta, mantenimiento y servicio de hornos industriales y hornos de laboratorio de alta, media y baja temperatura. Su gama de productos abarca hornos de campana, hornos de caja, hornos de aire caliente, hornos de vacío, hornos tubulares, hornos de cinta de malla, hornos de solera de bogie, hornos rotativos, hornos de solera de rodillos y hornos de empuje, que se aplican ampliamente en campos como cerámica avanzada, componentes electrónicos, circuitos de película gruesa, fabricación aditiva, pulvimetalurgia, nuevas energías y energía fotovoltaica. Estos hornos son adecuados para procesos de tratamiento térmico de materiales, incluidos objetivos ITO, MLCC/HTCC/LTCC, filtros cerámicos, materiales magnéticos, CIM/MIM y cátodos y ánodos de baterías de litio, así como varios otros procesos de materiales nuevos, como presinterización, desparafinado, desengrasado, sinterización, secado, tratamiento térmico, curado y ceramización.
