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| Brand Name: | Chitherm |
| Model Number: | HWF100-10NH |
| MOQ: | 1 |
| Price: | Negociável |
| Delivery Time: | Personalizado |
| Payment Terms: | Personalizado |
| Atributo | Valor |
|---|---|
| Certificação | ISO |
| Estilo de lugar | Vertical |
| Gama de aplicações | Industrial |
| Tipo | Forno de retenção elétrico |
| Uso | Sinterização Cerâmica |
| Combustível | Elétrico |
| Atmosfera | Nitrogênio/Hidrogênio |
| Dimensões efetivas da câmara | 500*500*650mm(L*A*P) |
| Pacote de Transporte | Embalagem de madeira |
| Especificação | 1500*1950*2200mm(L*A*P) |
| Marca registrada | Chitherm |
| Origem | China |
| Código HS | 8514101000 |
| Capacidade de fornecimento | 50 conjuntos/ano |
| Personalização | Disponível |
Modelo:HWF100-10NH
Aplicativo:Projetado para tratamento térmico de média temperatura de produtos eletrônicos, incluindo cerâmica eletrônica, materiais dielétricos e condutores, sob atmosferas protetoras de nitrogênio/hidrogênio.
| Item | Especificação |
|---|---|
| Temperatura operacional | Até 900°C |
| Temperatura Máxima | 1000ºC |
| Tamanho Efetivo da Câmara do Forno | 400 × 400 × 650 mm (L × A × P) |
| Elemento de aquecimento | Aquecedor de fibra cerâmica FEC (alta eficiência, economia de energia, longa vida útil) |
| Atmosfera de Processo | Nitrogênio / Hidrogênio (adequado para tratamento térmico de atmosfera protetora) |
| Sistema de exaustão | Porta de exaustão localizada na parte superior da câmara do forno para controle da atmosfera e ventilação de segurança |
| Método de resfriamento | Resfriamento natural dentro do forno (adequado para processos que não requerem resfriamento rápido) |
| Pontos de controle de temperatura | 3 pontos de controle independentes (dianteiro, central, traseiro) para melhor uniformidade de temperatura |
| Segmentos de controle de temperatura | 9 segmentos programáveis (suporta processos complexos de tratamento térmico) |
| Estabilidade de temperatura | ±1°C (controle de alta precisão) |
| Controlador de temperatura | Controlador de temperatura de programa inteligente Yokogawa (Japão) com função de ajuste automático PID |
| Uniformidade de temperatura | Melhor que ±5°C (testado a 900°C durante 1 hora num forno vazio) |
| Método de controle | Controle centralizado touchscreen + PLC (fácil de usar e altamente automatizado) |
| Proteção de Alarme | Excesso de temperatura, quebra de termopar e outros alarmes audiovisuais; inclui proteção contra corte de energia por superaquecimento; som de alarme alto para alertas de segurança |
| Aumento da temperatura da superfície | ≤35°C (garante operação segura e emissão mínima de calor externo) |
| Potência Máxima de Aquecimento | 30 kW |
| Mantendo o poder | ≤15 kW (projeto com eficiência energética) |
| Requisito de fonte de alimentação | Capacidade >40 kVA, trifásico 5 fios, 220/380 VCA, 50 Hz |
| Dimensões gerais (referência) | 1500 × 1950 × 2200 mm (L × A × P) |
| Item | Observação | Quantidade. |
|---|---|---|
| Componentes Básicos | Forno | 1 CONJUNTO |
| Certificado de inspeção | Certificado dos principais componentes terceirizados | 1 CONJUNTO |
| Documentos Técnicos | Instruções, documentos técnicos das principais peças terceirizadas, etc. | 1 CONJUNTO |
| Componentes principais | Analisador de microoxigênio | 1 CONJUNTO |
| Controlador de temperatura | 1 CONJUNTO | |
| Termopar | Tipo K | 3 peças |
| Peças de reposição | RSS | 1 unidade |
Hefei Chitherm Equipment Co., Ltd. é um fornecedor de equipamentos avançados especializado em pesquisa e desenvolvimento, design, fabricação, vendas, manutenção e serviço de fornos industriais e fornos de laboratório de alta, média e baixa temperatura. Sua linha de produtos abrange fornos de sino, fornos de caixa, fornos de ar quente, fornos a vácuo, fornos tubulares, fornos de correia de malha, fornos de soleira bogie, fornos rotativos, fornos de soleira de rolos e fornos empurradores, que são amplamente aplicados em campos como cerâmica avançada, componentes eletrônicos, circuitos de película espessa, fabricação aditiva, metalurgia do pó, nova energia e energia fotovoltaica. Esses fornos são adequados para processos de tratamento térmico de materiais, incluindo alvos ITO, MLCC/HTCC/LTCC, filtros cerâmicos, materiais magnéticos, CIM/MIM e cátodos e ânodos de baterias de lítio, bem como vários outros processos de novos materiais, como pré-sinterização, desparafinação, desengorduramento, sinterização, secagem, tratamento térmico, cura e ceramização.
