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Horno de caja de alta temperatura
Created with Pixso. Horno de deposición de vapor químico CVD 1000 Ordm C Horno de calentamiento por fusión

Horno de deposición de vapor químico CVD 1000 Ordm C Horno de calentamiento por fusión

Brand Name: Chitherm
Model Number: MBF100 a 10
MOQ: 1
Price: Negociable
Delivery Time: Personalizado
Payment Terms: Personalizado
Detail Information
Lugar de origen:
PORCELANA
Gama de aplicaciones:
Industrial
Tipo:
Horno de contenido eléctrico
Uso:
Sinterización de cerámica
Combustible:
Eléctrico
Atmósfera:
Nitrógeno
Dimensiones efectivas de la cámara:
640*640*250 mm ((W*H*D)
Paquete de transporte:
Envasado de madera
Especificación:
1200*1200*1500m m
Marca:
Chitherm
Origen:
PORCELANA
Código HS:
8514101000
Capacidad de la fuente:
50 sets/año
Personalización:
Disponible
Certificación:
ISO
Estilo de lugar:
Vertical
Detalles de empaquetado:
Personalizado
Capacidad de la fuente:
Personalizado
Resaltar:

Horno de deposición de vapor químico de calefacción

,

Horno de deposición de vapor químico de 1000 Ordm

,

Horno de cvd de 1000 ordm

Product Description
Horno de calentamiento de fusión químico del horno 1000°C de la deposición de vapor del CVD
Atributos del producto
Atributo Valor
Gama de aplicaciones Industrial
Tipo Horno de retención eléctrico
Uso Sinterización Cerámica
Combustible Eléctrico
Atmósfera Nitrógeno
Dimensiones efectivas de la cámara 640*640*250 mm (ancho x alto x profundidad)
Paquete de transporte Embalaje de madera
Especificación 1200*1200*1500mm
Marca Chitherm
Origen Porcelana
Código HS 8514101000
Capacidad de suministro 50 juegos/año
Personalización Disponible
Proceso de dar un título ISO
Estilo de lugar Vertical
Descripción del Producto

Horno CVD de deposición química de vapor tipo MBF100-10, horno de fusión de 1000°C, horno de calentamiento, combustible eléctrico certificado ISO

1. Nombre y modelo del equipo

Horno de deposición de vapor químico tipo MBF100-10

El horno de deposición química de vapor (CVD) tipo MBF100-10 es adecuado para el tratamiento térmico a temperatura media de productos electrónicos. Se utiliza principalmente para procesos de reacción en fase gaseosa de materiales relacionados en atmósferas de nitrógeno, helio, acetileno e hidrógeno. También se puede utilizar para procesos de sinterización de materiales relacionados bajo atmósferas protectoras.

2. Especificaciones Técnicas y Configuración Básica
  • Temperatura nominal:750°C
  • Temperatura máxima:1000°C
  • Dimensiones de la zona de calentamiento:770 × 770 × 300 mm (Ancho × Fondo × Alto)
  • Dimensiones efectivas:640 × 640 × 250 mm (Ancho × Fondo × Alto)
  • Material de la cámara exterior:SUS310S
  • Material del revestimiento interior:Cuarzo fundido
  • Tamaño del producto:Φ120
  • Capacidad del equipo:16 sustratos por lote
  • Potencia máxima de calefacción:16 kilovatios
  • Método de calentamiento:Fondo + Cuatro Lados
  • Puntos de control de temperatura:Abajo + Lado
  • Tipo de termopar:Tipo K
  • Tasa de calentamiento:≤8°C/minuto
  • Elementos calefactores:Calentadores de fibra cerámica FEC
  • Método de apertura de la puerta del horno:Diseño de apertura superior
  • Estabilidad del control de temperatura:±1°C
  • Instrumento de control de temperatura:Controlador PID importado con función de autoajuste
  • Pasos del programa:20 pasos
  • Alarma y Protección:Sobretemperatura, rotura de termopar y otras alarmas audibles/visuales, con protección de apagado por sobretemperatura
  • Aumento de la temperatura de la superficie:<35°C
  • Peso:alrededor de 500 kg
  • Dimensiones del horno:aproximadamente 1200 × 1200 × 1500 mm (ancho × alto × profundidad)
Horno de deposición de vapor químico CVD 1000 Ordm C Horno de calentamiento por fusión 0
3. Lista de entrega
Artículo Nota CANTIDAD
Composiciones básicas
Horno 1 unidad
Certificados de inspección Horno y principales componentes adquiridos. 1 juego
Documentos Técnicos Especificaciones del horno, documentos técnicos de los principales componentes adquiridos, etc. 1 juego
Partes clave
Controlador de flujo másico (MFC) Yamatake o HORIBA 4 juegos
pantalla táctil 1 unidad
Controlador de temperatura 1 juego
Calentador FEC 1 juego
Revestimiento de cuarzo 1 juego
Repuestos
RSS 1 unidad
4. Requisitos de las instalaciones

4.1 Condiciones ambientales:Temperatura 0 - 40°C, humedad ≤ 80% RH, sin gases corrosivos, sin fuertes alteraciones del flujo de aire.

4.2 Requisitos del terreno:nivelado, sin vibraciones evidentes, capacidad de carga > 500 kg/m².

4.3 Condiciones de energía:Capacidad mayor a 22kVA, 3 fases 5 líneas, voltaje 220/380V, frecuencia 50Hz (según situación local). Cable vivo: amarillo, verde, rojo, cable neutro: azul, cable de tierra: amarillo-verde.

4.4 Sitio de instalación:1500 mm × 1500 mm × 3000 mm (ancho × alto × profundidad), área de instalación superior a 2,5 m².

Horno de deposición de vapor químico CVD 1000 Ordm C Horno de calentamiento por fusión 1