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Forno a scatola ad alta temperatura
Created with Pixso. Forno di deposizione chimica a vapore CVD 1000 Ordm C Forno di riscaldamento a fusione

Forno di deposizione chimica a vapore CVD 1000 Ordm C Forno di riscaldamento a fusione

Brand Name: Chitherm
Model Number: MBF100-10
MOQ: 1
Price: Negoziabile
Delivery Time: Personalizzato
Payment Terms: Personalizzato
Detail Information
Luogo di origine:
Cina
Gamma di applicazioni:
Industriale
Tipo:
Fornace di tenuta elettrica
Utilizzo:
Sintering ceramico
Carburante:
Elettrico
Atmosfera:
Azoto
Dimensioni della camera efficaci:
640*640*250mm
Pacchetto di trasporto:
Imballaggio in legno
Specifiche:
1200*1200*1500mm
Marchio:
CHITHERM
Origine:
Cina
Codice HS:
8514101000
Capacità di alimentazione:
50 set/anno
Personalizzazione:
Disponibile
Certificazione:
ISO
Place Style:
Verticale
Imballaggi particolari:
Personalizzato
Capacità di alimentazione:
Personalizzato
Evidenziare:

Forno di deposizione di vapore chimico di riscaldamento

,

Fornace di deposizione chimica a vapore 1000 Ordm

,

Forno cvd 1000 Ordm

Product Description
CVD Chemical Vapor Deposition Furnace 1000°C Forno di fusione per riscaldamento
Attributi del prodotto
Attributo Valore
Gamma di applicazioni Industriale
Tipo Forno elettrico di mantenimento
Utilizzo Sinterizzazione ceramica
Combustibile Elettrico
Atmosfera Azoto
Dimensioni effettive della camera 640*640*250mm(L*A*P)
Pacchetto di trasporto Imballaggio in legno
Specifiche 1200*1200*1500mm
Marchio Chitherm
Origine Cina
Codice HS 8514101000
Capacità di fornitura 50 set/anno
Personalizzazione Disponibile
Certificazione ISO
Stile di posizionamento Verticale
Descrizione del prodotto

MBF100-10 Tipo Chemical Vapor Deposition CVD Furnace 1000°C Forno di fusione per riscaldamento Certificato ISO Combustibile elettrico

1. Nome e modello dell'apparecchiatura

Forno a deposizione chimica da vapore (CVD) tipo MBF100-10

Il forno a deposizione chimica da vapore (CVD) tipo MBF100-10 è adatto per il trattamento termico a media temperatura di prodotti elettronici. Viene utilizzato principalmente per i processi di reazione in fase gassosa di materiali correlati in atmosfere di azoto, elio, acetilene e idrogeno. Può anche essere utilizzato per i processi di sinterizzazione di materiali correlati in atmosfere protettive.

2. Specifiche tecniche e configurazione di base
  • Temperatura nominale: 750°C
  • Temperatura massima: 1000°C
  • Dimensioni della zona di riscaldamento: 770 × 770 × 300 mm (L × P × A)
  • Dimensioni effettive: 640 × 640 × 250 mm (L × P × A)
  • Materiale della camera esterna: SUS310S
  • Materiale del rivestimento interno: Quarzo fuso
  • Dimensione del prodotto: Φ120
  • Capacità dell'apparecchiatura: 16 substrati per lotto
  • Potenza massima di riscaldamento: 16 kW
  • Metodo di riscaldamento: Fondo + Quattro lati
  • Punti di controllo della temperatura: Fondo + Lato
  • Tipo di termocoppia: Tipo K
  • Velocità di riscaldamento: ≤8°C/min
  • Elementi riscaldanti: Riscaldatori in fibra ceramica FEC
  • Metodo di apertura della porta del forno: Design ad apertura superiore
  • Stabilità del controllo della temperatura: ±1°C
  • Strumento di controllo della temperatura: Regolatore PID importato con funzione di auto-tuning
  • Fasi del programma: 20 fasi
  • Allarme e protezione: Sovratemperatura, rottura della termocoppia e altri allarmi acustici/visivi, con protezione di spegnimento per sovratemperatura
  • Aumento della temperatura superficiale: <35°C
  • Peso: circa 500 kg
  • Dimensioni del forno: circa 1200×1200×1500mm (L×A×P)
Forno di deposizione chimica a vapore CVD 1000 Ordm C Forno di riscaldamento a fusione 0
3. Lista di consegna
Articolo Nota Q.tà
Composizioni di base
Forno 1 unità
Certificati di ispezione Forno e componenti principali acquistati 1 set
Documenti tecnici Specifiche del forno, documenti tecnici dei principali componenti acquistati, ecc. 1 set
Parti chiave
Regolatore di flusso di massa (MFC) Yamatake o HORIBA 4 set
Touch screen 1 PC
Regolatore di temperatura 1 set
Riscaldatore FEC 1 set
Rivestimento in quarzo 1 set
Ricambi
SSR 1 PC
4. Requisiti dell'impianto

4.1 Condizioni ambientali: Temperatura 0 - 40°C, umidità ≤ 80% UR, nessun gas corrosivo, nessuna forte turbolenza del flusso d'aria.

4.2 Requisiti del terreno: livello, nessuna vibrazione evidente, capacità portante > 500 kg/m².

4.3 Condizioni di alimentazione: capacità superiore a 22 kVA, 3 fasi 5 linee, tensione 220/380 V, frequenza 50 Hz (in base alla situazione locale). Cavo sotto tensione: giallo, verde, rosso, filo neutro: blu, filo di terra: giallo-verde.

4.4 Sito di installazione: 1500mm×1500mm×3000mm (L×A×P), area di installazione superiore a 2,5 m².

Forno di deposizione chimica a vapore CVD 1000 Ordm C Forno di riscaldamento a fusione 1