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Forno de caixa de alta temperatura
Created with Pixso. Forno de deposição de vapor químico CVD 1000 Ordm C Forno de aquecimento de fusão

Forno de deposição de vapor químico CVD 1000 Ordm C Forno de aquecimento de fusão

Brand Name: Chitherm
Model Number: MBF100-10
MOQ: 1
Price: Negociável
Delivery Time: Personalizado
Payment Terms: Personalizado
Detail Information
Lugar de origem:
CHINA
Gama de aplicações:
Industrial
Tipo:
Furno de retenção elétrica
Uso:
Sinterização de cerâmica
Combustível:
Elétrico
Atmosfera:
Azoto
Dimensões eficazes da câmara:
640*640*250mm ((W*H*D)
Pacote de transporte:
Embalagem de madeira
Especificação:
1200*1200*1500mm
Marca registrada:
Chitherm
Origem:
CHINA
Código HS:
8514101000
Habilidade da fonte:
50 conjuntos/ano
Personalização:
Disponível
Certificação:
ISO
Estilo de lugar:
Vertical
Detalhes da embalagem:
Personalizado
Habilidade da fonte:
Personalizado
Destacar:

Fornos de deposição de vapor químico de aquecimento

,

Forno de deposição de vapor químico de 1000 Ordm

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1000 Ordm cvd forno

Product Description
Forno de Deposição Química de Vapor CVD 1000°C Forno de Fusão e Aquecimento
Atributos do Produto
Atributo Valor
Gama de Aplicações Industrial
Tipo Forno Elétrico de Retenção
Uso Sinterização de Cerâmica
Combustível Elétrico
Atmosfera Nitrogênio
Dimensões Efetivas da Câmara 640*640*250mm(L*A*P)
Embalagem de Transporte Embalagem de Madeira
Especificação 1200*1200*1500mm
Marca Registrada Chitherm
Origem China
Código HS 8514101000
Capacidade de Fornecimento 50 Conjuntos/Ano
Personalização Disponível
Certificação ISO
Estilo de Colocação Vertical
Descrição do Produto

Forno CVD de Deposição Química de Vapor Tipo MBF100-10 1000°C Forno de Fusão Forno de Aquecimento Certificado ISO Combustível Elétrico

1. Nome e Modelo do Equipamento

Forno de Deposição Química de Vapor Tipo MBF100-10

O Forno de Deposição Química de Vapor (CVD) Tipo MBF100-10 é adequado para tratamento térmico em temperatura média de produtos eletrônicos. É usado principalmente para processos de reação em fase gasosa de materiais relacionados em atmosferas de nitrogênio, hélio, acetileno e hidrogênio. Também pode ser utilizado para processos de sinterização de materiais relacionados em atmosferas protetoras.

2. Especificações Técnicas e Configuração Básica
  • Temperatura Nominal: 750°C
  • Temperatura Máxima: 1000°C
  • Dimensões da Zona de Aquecimento: 770 × 770 × 300 mm (L × P × A)
  • Dimensões Efetivas: 640 × 640 × 250 mm (L × P × A)
  • Material da Câmara Externa: SUS310S
  • Material do Revestimento Interno: Quartzo Fundido
  • Tamanho do Produto: Φ120
  • Capacidade do Equipamento: 16 substratos por lote
  • Potência Máxima de Aquecimento: 16 kW
  • Método de Aquecimento: Fundo + Quatro Lados
  • Pontos de Controle de Temperatura: Fundo + Lado
  • Tipo de Termopar: Tipo K
  • Taxa de Aquecimento: ≤8°C/min
  • Elementos de Aquecimento: Aquecedores de Fibra Cerâmica FEC
  • Método de Abertura da Porta do Forno: Design de Abertura Superior
  • Estabilidade do Controle de Temperatura: ±1°C
  • Instrumento de Controle de Temperatura: Controlador PID Importado com Função de Auto-Sintonia
  • Etapas do Programa: 20 etapas
  • Alarme e Proteção: Alarmes audíveis/visuais de sobretemperatura, quebra do termopar e outros, com proteção de desligamento por sobretemperatura
  • Aumento da Temperatura da Superfície: <35°C
  • Peso: cerca de 500kg
  • Dimensões do Forno: cerca de 1200×1200×1500mm (L×A×P)
Forno de deposição de vapor químico CVD 1000 Ordm C Forno de aquecimento de fusão 0
3. Lista de Entrega
Item Observação QTD
Composições Básicas
Forno 1 unidade
Certificados de Inspeção Forno e principais componentes adquiridos 1 Conjunto
Documentos Técnicos Especificações do forno, documentos técnicos dos principais componentes adquiridos, etc. 1 Conjunto
Peças Chave
Controlador de Fluxo de Massa (MFC) Yamatake ou HORIBA 4 Conjuntos
Tela sensível ao toque 1 PC
Controlador de Temperatura 1 Conjunto
Aquecedor FEC 1 Conjunto
Revestimento de Quartzo 1 Conjunto
Peças de Reposição
SSR 1 PC
4. Requisitos de Instalação

4.1 Condições ambientais: Temperatura 0 - 40°C, umidade ≤ 80% UR, sem gás corrosivo, sem forte perturbação do fluxo de ar.

4.2 Requisitos do solo: nivelado, sem vibração óbvia, capacidade de carga > 500Kg/m².

4.3 Condições de energia: capacidade superior a 22kVA, 3 fases 5 linhas, tensão 220/380V, frequência 50Hz (de acordo com a situação local). Fio vivo: amarelo, verde, vermelho, fio neutro: azul, fio terra: amarelo-verde.

4.4 Local de instalação: 1500mm×1500mm×3000mm (L×A×P), área de instalação superior a 2,5m².

Forno de deposição de vapor químico CVD 1000 Ordm C Forno de aquecimento de fusão 1