Htf2550-07 Forno de Tratamento Térmico, Forno Tubular, 1200*1700*2200mm (L*A*P)

Fornalha de derretimento da fornalha do tratamento térmico de 700°C HTF2550-07 com estilo horizontal do lugar e nível máximo do vácuo de 10^-4PA

O forno de tratamento térmico HTF2550-07 é adequado para sinterização de produtos eletrônicos em temperaturas de até 500ºC, bem como para tratamento térmico em atmosferas controladas em indústrias como eletrônica, química, mecânica e pesquisa científica. Este produto utiliza tecnologia infravermelha avançada e materiais de forno de alta qualidade, aumentando a eficiência térmica do equipamento. Ele emprega tecnologia avançada de controle de temperatura para garantir uma regulação precisa da temperatura. O design maduro do forno garante distribuição uniforme de temperatura. A estrutura do forno em tubo de vidro garante a limpeza do produto e ótimos efeitos de sinterização sob atmosferas controladas, garantindo assim resultados de sinterização de alta qualidade.

• Modelo:Forno de tratamento térmico HTF2550-07
• Temperatura Máxima:700ºC
• Temperatura operacional:500ºC
• Tamanho Efetivo:Φ250 mm × 500 mm
• Comprimento da zona de aquecimento:300 + 300 + 300 mm
• Número de zonas de temperatura:3 zonas de controle independentes
• Precisão do controle de temperatura:±1ºC
• Instrumento de controle de temperatura:Módulo de controle de temperatura japonês importado
• Tipo de termopar:Tipo K
• Elemento de aquecimento:Aquecedor de fibra cerâmica FEC por infravermelho distante
• Atmosfera do Forno:Nitrogênio (gás protetor)
• Taxa de fluxo de gás:10-100 L/min
• Potência Máxima de Aquecimento:24 kW
• Potência de isolamento do forno ocioso:Aproximadamente 8 kW
• Aumento da temperatura da superfície:≤35ºC
• Vácuo final:5×Pa
• Requisitos de energia:380V/50Hz, trifásico 5 fios
• Requisitos de atmosfera:Nitrogênio de alta pureza (gás protetor), pressão de entrada 0,1 ~ 0,2 MPa; Ar comprimido seco e isento de óleo (gás de ventilação), pressão 0,4~0,8 MPa
• Dimensões:1200 × 1700 × 2200 mm (L × A × P)
• Ambiente Operacional:Solo nivelado, ambiente interno com mínima perturbação do ar, sem gases corrosivos e vibração mínima. A sala de controle elétrico deve ter temperatura ambiente de 0~40ºC e umidade de 10%~85% UR. A área do forno deve ter boa ventilação, com temperatura ambiente não superior a 50ºC e umidade de 10%~85% UR.

perfil de companhia

Hefei Chitherm Equipment Co., Ltd. é um fornecedor de equipamentos avançados especializado em pesquisa e desenvolvimento, design, fabricação, vendas, manutenção e serviço de fornos industriais e fornos de laboratório de alta, média e baixa temperatura. Sua linha de produtos abrange fornos de sino, fornos de caixa, fornos de ar quente, fornos a vácuo, fornos tubulares, fornos de correia de malha, fornos de soleira bogie, fornos rotativos, fornos de soleira de rolos e fornos empurradores, que são amplamente aplicados em campos como cerâmica avançada, componentes eletrônicos, circuitos de película espessa, fabricação aditiva, metalurgia do pó, nova energia e energia fotovoltaica. Esses fornos são adequados para processos de tratamento térmico de materiais, incluindo alvos ITO, MLCC/HTCC/LTCC, filtros cerâmicos, materiais magnéticos, CIM/MIM e cátodos e ânodos de baterias de lítio, bem como vários outros processos de novos materiais, como pré-sinterização, desparafinação, desengorduramento, sinterização, secagem, tratamento térmico, cura e ceramização.