Htf2550-07 Warmtebehandelingsoven, Buisoven, 1200*1700*2200mm (B*H*D)

700°C HTF2550-07 Warmtebehandelingsoven Smeltoven met horizontale plaatsstijl en maximaal vacuümniveau van 10^-4PA

De HTF2550-07 warmtebehandelingsoven is geschikt voor het sinteren van elektronische producten bij temperaturen tot 500ºC, maar ook voor warmtebehandeling in gecontroleerde atmosferen in industrieën zoals elektronica, chemisch, mechanisch en wetenschappelijk onderzoek. Dit product maakt gebruik van geavanceerde infraroodtechnologie en hoogwaardige ovenmaterialen, waardoor de thermische efficiëntie van de apparatuur wordt verbeterd. Het maakt gebruik van geavanceerde temperatuurcontroletechnologie om een ​​nauwkeurige temperatuurregeling te garanderen. Het volwassen ovenontwerp zorgt voor een uniforme temperatuurverdeling. De ovenstructuur in glazen buisstijl garandeert productreinheid en optimale sintereffecten onder gecontroleerde atmosferen, waardoor hoogwaardige sinterresultaten worden gegarandeerd.

• Model:HTF2550-07 Warmtebehandelingsoven
• Maximale temperatuur:700ºC
• Bedrijfstemperatuur:500ºC
• Effectieve grootte:Φ250 mm × 500 mm
• Lengte verwarmingszone:300 + 300 + 300 mm
• Aantal temperatuurzones:3 onafhankelijke controlezones
• Nauwkeurigheid temperatuurregeling:±1ºC
• Instrument voor temperatuurregeling:Geïmporteerde Japanse temperatuurregelmodule
• Thermokoppeltype:K-type
• Verwarmingselement:Ver-infrarood FEC keramische vezelverwarmer
• Ovenatmosfeer:Stikstof (beschermgas)
• Gasstroomsnelheid:10-100 l/min
• Maximaal verwarmingsvermogen:24 kW
• Isolatievermogen bij inactieve oven:Ongeveer 8 kW
• Stijging oppervlaktetemperatuur:≤35ºC
• Ultiem vacuüm:5×Pa
• Stroomvereisten:380V/50Hz, 3-fase 5-draads
• Sfeervereisten:Zeer zuivere stikstof (beschermgas), ingangsdruk 0,1 ~ 0,2 MPa; Droge, olievrije perslucht (ventilatiegas), druk 0,4~0,8 MPa
• Afmetingen:1200 × 1700 × 2200 mm (B × H × D)
• Bedrijfsomgeving:Vlakke ondergrond, binnenklimaat met minimale luchtverstoring, geen corrosieve gassen en minimale trillingen. De elektrische controlekamer moet een omgevingstemperatuur van 0~40ºC en een vochtigheid van 10%~85% RH hebben. Het ovengedeelte moet goed geventileerd zijn, met een omgevingstemperatuur van maximaal 50ºC en een vochtigheid van 10%~85% RH.

Bedrijfsprofiel

Hefei Chitherm Equipment Co., Ltd. is een leverancier van geavanceerde apparatuur, gespecialiseerd in onderzoek en ontwikkeling, ontwerp, productie, verkoop, onderhoud en service van industriële ovens met hoge, gemiddelde en lage temperatuur en laboratoriumovens. Het productassortiment omvat klokovens, doosovens, heteluchtovens, vacuümovens, buisovens, gaasbandovens, draaistelovens, roterende ovens, rolhaardovens en duwovens, die uitgebreid worden toegepast op gebieden zoals geavanceerde keramiek, elektronische componenten, dikkefilmcircuits, additieve productie, poedermetallurgie, nieuwe energie en fotovoltaïsche zonne-energie. Deze ovens zijn geschikt voor thermische behandelingsprocessen van materialen, waaronder ITO-doelen, MLCC/HTCC/LTCC, keramische filters, magnetische materialen, CIM/MIM en kathoden en anodes van lithiumbatterijen, evenals diverse andere nieuwe materiaalprocessen zoals voorsinteren, ontwassen, ontvetten, sinteren, drogen, warmtebehandeling, uitharden en keramiseren.