Htf2550-07 Forno per trattamento termico, Forno tubolare, 1200*1700*2200mm (L*A*P)

Forno di fusione per trattamento termico HTF2550-07 da 700°C con posizionamento orizzontale e livello di vuoto massimo di 10^-4PA

Il forno per trattamento termico HTF2550-07 è adatto per la sinterizzazione di prodotti elettronici a temperature fino a 500ºC, nonché per il trattamento termico in atmosfere controllate in settori quali l'elettronica, la chimica, la meccanica e la ricerca scientifica. Questo prodotto utilizza una tecnologia a infrarossi avanzata e materiali da forno di alta qualità, migliorando l'efficienza termica dell'apparecchiatura. Utilizza una tecnologia avanzata di controllo della temperatura per garantire una regolazione precisa della temperatura. Il design maturo del forno garantisce una distribuzione uniforme della temperatura. La struttura del forno a tubo di vetro garantisce la pulizia del prodotto e effetti di sinterizzazione ottimali in atmosfere controllate, garantendo così risultati di sinterizzazione di alta qualità.

• Modello:HTF2550-07 Forno per trattamento termico
• Temperatura massima:700ºC
• Temperatura operativa:500ºC
• Dimensione effettiva:Φ250 mm × 500 mm
• Lunghezza della zona di riscaldamento:300+300+300 mm
• Numero di zone di temperatura:3 zone di controllo indipendenti
• Precisione del controllo della temperatura:±1ºC
• Strumento di controllo della temperatura:Modulo di controllo della temperatura giapponese importato
• Tipo di termocoppia:Tipo K
• Elemento riscaldante:Riscaldatore in fibra ceramica FEC a infrarossi lontani
• Atmosfera del forno:Azoto (gas protettivo)
• Portata del gas:10-100 l/min
• Potenza di riscaldamento massima:24 chilowatt
• Potere di isolamento del forno inattivo:Circa 8kW
• Aumento della temperatura superficiale:≤35ºC
• Vuoto definitivo:5×Pa
• Requisiti di alimentazione:380 V/50 Hz, trifase a 5 fili
• Requisiti dell'atmosfera:Azoto di elevata purezza (gas protettivo), pressione di ingresso 0,1~0,2 MPa; Aria compressa secca e priva di olio (gas di ventilazione), pressione 0,4~0,8 MPa
• Dimensioni:1200 × 1700 × 2200 mm (L × A × P)
• Ambiente operativo:Terreno pianeggiante, ambiente interno con disturbo dell'aria minimo, assenza di gas corrosivi e vibrazioni minime. La sala di controllo elettrica deve avere una temperatura ambiente di 0~40ºC e un'umidità relativa del 10%~85%. L'area del forno deve avere una buona ventilazione, con una temperatura ambiente non superiore a 50ºC e un'umidità compresa tra il 10% e l'85% di umidità relativa.

Profilo Aziendale

Hefei Chitherm Equipment Co., Ltd. è un fornitore di apparecchiature avanzate specializzato nella ricerca e sviluppo, progettazione, produzione, vendita, manutenzione e assistenza di forni industriali e forni da laboratorio ad alta, media e bassa temperatura. La sua gamma di prodotti comprende forni a campana, forni a scatola, forni ad aria calda, forni sotto vuoto, forni tubolari, forni a nastro a maglie, forni a suola mobile, forni rotativi, forni a suola a rulli e forni a spinta, che trovano ampia applicazione in campi quali ceramica avanzata, componenti elettronici, circuiti a film spesso, produzione additiva, metallurgia delle polveri, nuova energia e fotovoltaico. Questi forni sono adatti per processi di trattamento termico di materiali tra cui target ITO, MLCC/HTCC/LTCC, filtri ceramici, materiali magnetici, CIM/MIM e catodi e anodi di batterie al litio, nonché vari altri nuovi processi di materiali come pre-sinterizzazione, deparaffinazione, sgrassaggio, sinterizzazione, essiccazione, trattamento termico, indurimento e ceramizzazione.