Forni industriali Hwf160-10nh Forno a muffle a vuoto da sinterizzazione ceramica Chitherm con dimensioni di camera efficaci

Questo forno è progettato per il processo di saldatura di parti metalliche e pacchetto HTCC, con applicazioni aggiuntive tra cui processi di decarburazione, ricottura, tempra, bruciatura, indurimento e decomposizione termica.

• Temperatura nominale: 900°C
• Temperatura massima: 1100°C
• Opzioni atmosfera: N2, H2 con umidificazione
• Misurazione del contenuto di ossigeno: analizzatore del contenuto di O2
• Materiale della muffola: SUS 310S
• Dimensioni della muffola: φ750mm×900mm(d×D)
• Dimensioni effettive della camera: 500×500×650 mm (L×A×P)
• Metodo di caricamento: manuale tramite ripiani con guida orizzontale
• Metodo di riscaldamento: piastra riscaldante precostruita con filo di resistenza
• Metodo di raffreddamento: raffreddamento ad aria con ventilatore
• Stabilità del controllo della temperatura: ±1°C (controller con funzione PID)
• Passaggi del profilo: 20 passaggi predefiniti
• Uniformità della temperatura: ±5°C
• Termocoppia: tipo K
• Punti di controllo della temperatura: 3
• Punti di misurazione della temperatura: 1
• Potenza di riscaldamento massima: 40kW
• Potenza di isolamento tipica: ≤25kW
• Velocità di riscaldamento: ≤5°C/min
• Temperatura della superficie del forno: ≤40°C
• Valore massimo del vuoto: ≤10Pa
• Sistema di scarico: 1 porta di scarico sulla parte superiore con accenditore H2
• Sistema di allarme: allarmi acustici e visivi per sovratemperatura, guasto della termocoppia, bassa pressione aria/acqua, livello di vuoto inferiore alla norma
• Peso: 1500 kg
• Colore aspetto: grigio chiaro
• Dimensioni esterne: 1650 mm×1950 mm×2000 mm (L×A×P)

• Condizioni ambientali: temperatura 0~40°C, umidità ≤80%RH, assenza di gas corrosivi, assenza di forti disturbi del flusso d'aria
• Condizioni N2: purezza 99,999%, pressione di esercizio: 0,2-0,4 MPa, consumo massimo di gas 2-6 m³/h
• Condizioni H2: pressione di esercizio: 0,2-0,4 MPa, consumo massimo di gas 1-3 m³/h
• Condizioni dell'aria compressa: asciutta, pulita, priva di olio, pressione di esercizio: 0,4-0,8 MPa
• Condizioni dell'acqua: acqua pulita, non corrosiva, pressione di esercizio 0,1-0,3 MPa, 3-9 l/min
• Sistema di ventilazione: accesso senza contatto al sistema di pompaggio dell'utente, capacità di pompaggio >15m³/h
• Requisiti del terreno: orizzontale, nessuna vibrazione evidente, portata >500 kg/m²
• Condizione di alimentazione: capacità >55 kVA, trifase 5 linee, tensione 220/380 V, frequenza 50 Hz
• Luogo di installazione: 3000 mm×2500 mm×3000 mm (P×L×A), area di installazione >7,5 m²

Hefei Chitherm Equipment Co., Ltd. è specializzata nella ricerca, sviluppo, progettazione, produzione, vendita, manutenzione e assistenza di forni industriali e forni da laboratorio ad alta, media e bassa temperatura. La nostra gamma di prodotti comprende forni a campana, forni a scatola, forni ad aria calda, forni sotto vuoto, forni tubolari, forni a nastro a maglie, forni a suola mobile, forni rotativi, forni a suola a rulli e forni a spinta.

Queste soluzioni trovano ampia applicazione nella ceramica avanzata, nei componenti elettronici, nei circuiti a film spesso, nella produzione additiva, nella metallurgia delle polveri, nelle nuove energie e nel fotovoltaico. I nostri forni sono adatti per processi di trattamento termico di materiali tra cui target ITO, MLCC/HTCC/LTCC, filtri ceramici, materiali magnetici, CIM/MIM e catodi e anodi di batterie al litio, nonché vari altri nuovi processi di materiali come pre-sinterizzazione, deparaffinazione, sgrassaggio, sinterizzazione, essiccazione, trattamento termico, indurimento e ceramizzazione.