Industriële ovens Hwf160-10nh Vacuüm Muffleoven uit Chitherm Ceramic Sintering met effectieve kamer afmetingen

Deze oven is ontworpen voor het soldeerproces van metalen onderdelen en HTCC-pakketten, met aanvullende toepassingen zoals ontkoling, gloeien, afschrikken, verschroeien, harden en thermische ontledingsprocessen.

• Nominale temperatuur: 900°C
• Maximale temperatuur: 1100°C
• Atmosfeer Opties: N2, H2 met bevochtiging
• Meting van het zuurstofgehalte: O2-gehalteanalysator
• Dempmateriaal: SUS 310S
• Demp afmetingen: φ750 mm × 900 mm (d × D)
• Effectieve kamerafmetingen: 500×500×650mm (B×H×D)
• Laadmethode: Handmatig via horizontale geleideplanken
• Verwarmingsmethode: voorgebouwde verwarmingsplaat met weerstandsdraad
• Koelmethode: luchtkoeling met ventilator
• Stabiliteit temperatuurregeling: ±1°C (controller met PID-functie)
• Profielstappen: standaard 20 stappen
• Temperatuuruniformiteit: ±5°C
• Thermisch koppel: Type K
• Temperatuurcontrolepunten: 3
• Temperatuurmeetpunten: 1
• Maximaal verwarmingsvermogen: 40 kW
• Typisch isolatievermogen: ≤25 kW
• Verwarmingssnelheid: ≤5°C/min
• Oppervlaktetemperatuur oven: ≤40°C
• Maximale vacuümwaarde: ≤10Pa
• Uitlaatsysteem: 1 uitlaatpoort bovenaan met H2-ontsteker
• Alarmsysteem: hoorbare en visuele alarmen voor te hoge temperatuur, thermokoppelstoring, lage lucht-/waterdruk, ondermaats vacuümniveau
• Gewicht: 1500 kg
• Uiterlijk Kleur: lichtgrijs
• Externe afmetingen: 1650 mm x 1950 mm x 2000 mm (B x H x D)

• Omgevingsomstandigheden: temperatuur 0~40°C, vochtigheid ≤80%RH, geen corrosief gas, geen sterke verstoring van de luchtstroom
• N2-omstandigheden: 99,999% zuiverheid, werkdruk: 0,2-0,4 MPa, maximaal gasverbruik 2-6 m³/u
• H2-omstandigheden: Werkdruk: 0,2-0,4 MPa, maximaal gasverbruik 1-3 m³/u
• Conditie van perslucht: droog, schoon, olievrij, werkdruk: 0,4-0,8 MPa
• Wateromstandigheden: schoon, geen corrosief water, werkdruk 0,1-0,3 MPa, 3-9 l/min
• Ventilatiesysteem: Contactloze toegang tot het pompsysteem van de gebruiker, pompcapaciteit >15m³/u
• Grondvereisten: Horizontaal, geen duidelijke trillingen, draagvermogen >500 kg/m²
• Stroomvoorziening: Capaciteit >55kVA, 3-fasen, 5-lijnen, spanning 220/380V, frequentie 50Hz
• Installatielocatie: 3000 mm x 2500 mm x 3000 mm (D x B x H), installatiegebied> 7,5 m²

Hefei Chitherm Equipment Co., Ltd. is gespecialiseerd in onderzoek, ontwikkeling, ontwerp, productie, verkoop, onderhoud en service van industriële ovens voor hoge, gemiddelde en lage temperaturen en laboratoriumovens. Ons productassortiment omvat klokovens, boxovens, heteluchtovens, vacuümovens, buisovens, gaasbandovens, draaistelovens, roterende ovens, rolovens en duwovens.

Deze oplossingen worden uitgebreid toegepast in geavanceerde keramiek, elektronische componenten, dikkefilmcircuits, additieve productie, poedermetallurgie, nieuwe energie en fotovoltaïsche zonne-energie. Onze ovens zijn geschikt voor thermische behandelingsprocessen van materialen, waaronder ITO-doelen, MLCC/HTCC/LTCC, keramische filters, magnetische materialen, CIM/MIM en kathoden en anodes van lithiumbatterijen, evenals diverse andere nieuwe materiaalprocessen zoals voorsinteren, ontwassen, ontvetten, sinteren, drogen, warmtebehandeling, uitharden en keramiseren.