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熱気の乾燥オーブン
Created with Pixso. 800*800*800mmチャンバーと650℃定格温度を備えた工業用マッフル炉、精密±1℃制御用

800*800*800mmチャンバーと650℃定格温度を備えた工業用マッフル炉、精密±1℃制御用

Brand Name: Chitherm
Model Number: HRF512-07N
MOQ: 1
Price: 交渉可能
Delivery Time: カスタマイズ
Payment Terms: カスタマイズ
Detail Information
起源の場所:
中国
アプリケーションの範囲:
産業
タイプ:
電気保持炉
使用法:
セラミック乾燥
燃料:
電気
雰囲気:
窒素
効果的なチャンバー寸法:
800*800*800mm (W*H*D)
熱対タイプ:
K型
トランスポートパッケージ:
木製のパッケージ
仕様:
1500*1930*2000mm (W*H*D)
商標:
Chitherm
起源:
中国
HSコード:
8514101000
供給の能力:
50セット/年
カスタマイズ:
利用可能
証明:
ISO
スタイルを配置します:
垂直
パッケージの詳細:
カスタマイズ
供給の能力:
カスタマイズ
ハイライト:

800*800*800mm カメラマフルオーブン

,

650℃定格温度マッフル炉

,

±1℃温度制御マッフル炉

Product Description

基本情報

型番
HRF512-07N
適用範囲
産業用
タイプ
電気保持炉
用途
セラミック乾燥
燃料
電気
雰囲気
窒素
有効チャンバー寸法
800*800*800mm(W*H*D)
熱電対タイプ
K型
温度制御安定性
±1℃
定格温度
650℃
表面温度上昇
≤35℃
加熱速度
≤5℃/分
総重量
約1200kg
輸送パッケージ
木製パッケージ
仕様
1500*1930*2000mm(W*H*D)
商標
Chitherm
原産地
中国
HSコード
8514101000
生産能力
50セット/年

梱包と配送

パッケージサイズ
151.00cm * 194.00cm * 201.00cm
パッケージ総重量
1200.000kg

製品説明

製品説明

 I. 基本的な機器情報

•型番:HRF512-07N

•用途:半導体、電子部品、材料の乾燥、硬化、脱脂などの熱処理プロセスに適しています。

•動作温度範囲:室温(RT)から650℃(通常使用の場合)。

•最大試験温度:700℃(機器の限界ですが、ルーチンプロセスは650℃を超えないことが推奨されます)。

詳細写真

800*800*800mmチャンバーと650℃定格温度を備えた工業用マッフル炉、精密±1℃制御用 0
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 配送リスト

アイテム 注記 数量
基本構成 乾燥機
1個
検査証明書 乾燥機および主要購入部品 1セット

電気精製炉

排ガス処理用


技術文書 マニュアル、主要購入部品の技術文書など 1セット
主要部品 ステンレス鋼ヒーター
1セット
温度コントローラー
2セット
タッチスクリーン
1セット
循環ファン
1セット
スペア SSR
1個
ステンレス鋼ヒーター
1セット
シールガスケット
2セット

製品パラメータ

II. 炉構造と加熱システム

• 炉の寸法(内部):800 × 800 × 800 mm(W × H × D)

• 温度ゾーン数:1ゾーン

• 温度制御点:1点

• 加熱方法:ステンレス鋼加熱管

• 加熱電力:

  • 最大加熱電力≤36kW

    • 炉内温度均一性:±5℃(650℃で1時間安定させた後の無負荷条件下で測定)

    • 断熱材:フルファイバー材(優れた断熱性と高温耐性)

    • 空気供給システム:均一な炉内温度を確保するための熱風循環用遠心ファンホイール1台

III. 制御システム

• 上位コンピュータ:MCGSタッチスクリーン(ユーザーフレンドリーなHMIインターフェース)

• 下位コンピュータ:

  • Yamatake(日本)C1A/C1M温度コントローラー

  • Siemens PLC

    • システムの特徴:

  • MCGSタッチスクリーン + Siemens PLC + Yamatake温度コントローラーで構成され、拡張性の高い安定した構造

  • 安定した信頼性の高い性能で、長時間の連続運転に適しています

  • 高速かつ正確なリアルタイムデータ取得と制御応答

  • 上位コンピュータは温度データをリアルタイムで収集し、パラメータ設定とフィードバックを可能にし、制御精度とシステムの安定性を確保します

IV. ガスおよび冷却システム

  1. ガス(窒素)の要件:

ガスタイプ:高純度窒素

純度要件:≥99.999%

入口圧力:0.2~0.4MPa

窒素消費量:~10m³/h

  1. 冷却方法:

自然炉冷却(強制水または空気冷却システムなし。プロセスのニーズに応じてオプション)

水入口(水冷システムを選択した場合、以下の条件を満たす必要があります):

水質:清浄で非腐食性

水温:≤23℃

水圧:0.2~0.4MPa

水流量:~2~6L/min(循環量)

注:水冷システムが標準でない場合、水入口条件は適用されない場合があります。水冷モジュールが含まれている場合は、実際の構成要件に従って冷却水を提供してください。

V. 環境および設置要件

  1. 環境条件:

周囲温度:0~40℃

相対湿度:< 80% RH

腐食性ガスがないこと

強い気流の乱れがないこと

  1. 換気要件:

お客様が提供する排気システムへの非接触接続

排気容量要件:> 15m³/h(炉排気または揮発性物質の排出用)

  1. 床の要件:

水平で、大きな振動がないこと

耐荷重要件:> 300kg/m²

  1. 電源要件:

電源タイプ:220/380V、3相5線、50Hz

電力容量:> 50kVA

配線色規格:

活線(L1/L2/L3):黄色、緑色、赤色

中性線(N):青色

アース線(PE):黄緑色

設置スペース要件:

推奨設置スペース:2000 × 3000 × 3000 mm(W × D × H)

最小設置面積:> 6m²

認証

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梱包と発送

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会社概要

合肥Chitherm Equipment Co., Ltd.は、高温、中温、低温の工業炉および実験炉の研究開発、設計、製造、販売、メンテナンス、サービスを専門とする先進的な機器サプライヤーです。その製品範囲には、ベル炉、箱型炉、熱風炉、真空炉、管状炉、メッシュベルト炉、台車炉、ロータリー炉、ローラーハース炉、プッシャー炉が含まれており、先進セラミックス、電子部品、厚膜回路、付加製造、粉末冶金、新エネルギー、太陽光発電などの分野で広く使用されています。これらの炉は、ITOターゲット、MLCC/HTCC/LTCC、セラミックフィルター、磁性材料、CIM/MIM、リチウム電池の正極と負極などの材料の熱処理プロセス、および予備焼結、脱ロウ、脱脂、焼結、乾燥、熱処理、硬化、セラミック化などのさまざまな新しい材料プロセスに適しています。

800*800*800mmチャンバーと650℃定格温度を備えた工業用マッフル炉、精密±1℃制御用 5

当社の利点

800*800*800mmチャンバーと650℃定格温度を備えた工業用マッフル炉、精密±1℃制御用 6

800*800*800mmチャンバーと650℃定格温度を備えた工業用マッフル炉、精密±1℃制御用 7

よくある質問

1. Chithermはどのような製品を提供していますか?
当社は、高品質のベル炉、熱風炉、箱型炉、管状炉、真空炉、カーボトム炉、ロータリーキルン、メッシュベルト炉、プッシャー炉を顧客に提供しています。
2. Chithermはどのようなプリセールスサービスを提供していますか?
お客様が最適な製品を選択できるよう、タイムリーなコンサルティングサービスを提供し、お客様の特定の要件を満たす高度にカスタマイズ可能なソリューションを提供しています。
3. Chithermのコアな強みは何ですか?
研究開発、製造、販売を統合したハイテク企業として、Chithermは優れたソリューションを提供する特許技術とコアリソースを所有しています。

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