| Brand Name: | Chitherm |
| Model Number: | HRF512-07N |
| MOQ: | 1 |
| Price: | Negoziabile |
| Delivery Time: | Personalizzato |
| Payment Terms: | Personalizzato |
I.Nome e modello dell'apparecchiatura: Forno di debinding ad aria calda a azoto HRF512-07N
Il forno di debinding ad aria calda a azoto HRF512-07N è progettato principalmente per processi di essiccazione, polimerizzazione o debinding in semiconduttori, componenti elettronici o materiali. L'apparecchiatura utilizza tubi riscaldanti in acciaio inossidabile per il riscaldamento, è dotata di una ventola centrifuga per l'alimentazione dell'aria, è isolata con materiale interamente in fibra ed è controllata da un controller di temperatura intelligente importato.


| Lista di consegna | |||
| Articolo | Nota | Q.tà | |
| Composizioni di base | Essiccatore | 1 PC | |
| Certificati di ispezione | Essiccatore e componenti principali acquistati | 1 set | |
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Forno di purificazione elettrica |
Per il trattamento dei gas di scarico |
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| Documenti tecnici | Istruzioni manuali, documenti tecnici dei principali componenti acquistati, ecc. | 1 set | |
| Parti chiave | Resistenza in acciaio inossidabile | 1 set | |
| Regolatore di temperatura | 2 set | ||
| Touch screen | 1 set | ||
| Ventola di circolazione | 1 set | ||
| Ricambi | SSR | 1 PC | |
| Resistenza in acciaio inossidabile | 1 set | ||
| Guarnizione di tenuta | 2 set | ||
II. Specifiche tecniche e configurazione di base
2.1. Temperatura nominale: 650°C;
2.2. Temperatura massima: 700°C;
2.3. Dimensioni della camera: 800×800×800mm (L×P×A);
2.4. Materiale della camera: SUS310S;
2.5. Metodo di carico: vassoi in acciaio inossidabile SUS310S, 9 strati in totale, dotati di 6 vassoi, capacità di carico ≤60Kg/strato;
2.6. Elementi riscaldanti: resistenze in acciaio inossidabile;
2.7. Stabilità della temperatura: ±1°C;
2.8. Uniformità della temperatura: ±5°C (testato a 650°C per 1 ora in un forno vuoto);
2.9. Tipo di termocoppia: Tipo K;
2.10. Atmosfera della camera: Azoto;
2.11. Strumento di controllo della temperatura: Regolatore di temperatura giapponese importato;
2.12. Segmenti di controllo della temperatura: 20 fasi (curve di temperatura del processo memorizzate ≥10);
2.13. Punti di controllo della temperatura: 1 punto;
2.14. Punti di rilevamento: 1 punto;
2.15. Ciminiera di scarico: 1 unità, DN50, con apertura di scarico regolabile manualmente;
2.16. Rilevamento del contenuto di ossigeno: Dotato di un micro-analizzatore di ossigeno per il monitoraggio in tempo reale dei livelli di ossigeno nella camera;
2.17. Contenuto di ossigeno: Il contenuto di ossigeno ottimale può raggiungere 10 ppm + contenuto di ossigeno della sorgente di gas;
2.18. Protezione di allarme: Sovratemperatura, interruzione della termocoppia, bassa pressione dell'aria, bassa pressione dell'acqua, protezione contro l'inversione di fase del motore e allarme di sovratemperatura con protezione di spegnimento;
2.19. Protezione del motore: Protezione da sovracorrente della ventola;
2.20. Aumento della temperatura superficiale: ≤35°C;
2.21. Velocità di riscaldamento: ≤5°C/min;
2.22. Potenza di riscaldamento: 36kW;
2.23. Potenza di isolamento del forno a vuoto: ≤18kW;
2.24. Colore dell'apparecchiatura: Grigio chiaro;
2.25. Peso totale dell'apparecchiatura: Circa 1200 kg;
2.26. Dimensioni esterne di riferimento: 1500mm×1930mm×2000mm (L×P×A, esclusa la ciminiera).
III. Descrizione tecnica generale
Il forno è principalmente diviso in struttura del forno, sistema di circolazione dell'aria calda, sistema di atmosfera e sistema di controllo della temperatura.
Il sistema di controllo adotta un touch screen + controllo centralizzato PLC, con un'interfaccia intuitiva per un funzionamento conveniente.
IV. Condizioni operative normali
4.1 Condizioni di alimentazione del gas: Azoto ad alta purezza, purezza 99,999%, pressione di alimentazione 0,2-0,4 MPa, consumo di gas circa 10 m³/h.
4.2 Condizioni di alimentazione dell'acqua: Pulita e non corrosiva, temperatura dell'acqua ≤23°C, pressione di alimentazione 0,2-0,4 MPa, portata di circolazione circa 2-6 L/min.
4.3 Condizioni ambientali: Temperatura 0-40°C, umidità ≤80% UR, nessun gas corrosivo, nessuna forte perturbazione del flusso d'aria.
4.4 Sistema di ventilazione: Collegamento non a contatto con il sistema di scarico dell'utente, capacità di scarico superiore a 15 m³/h.
4.5 Requisiti del pavimento: Livellato, senza vibrazioni significative, capacità di carico >300 kg/m².
4.6 Condizioni di alimentazione: Capacità superiore a 50 kVA, trifase a 5 fili, tensione 220/380 V, frequenza 50 Hz.
Fili sotto tensione: giallo, verde, rosso; filo neutro: blu; filo di terra: giallo-verde.
4.7 Spazio di installazione: 2000 mm × 3000 mm × 3000 mm (L × P × A), area di installazione superiore a 6 m².
V. Requisiti aggiuntivi:
A. Intelligenza digitale
Automazione dei processi
Controllo automatico delle valvole del gas, commutazione in base ai programmi preimpostati.
Temperatura e durata del riscaldamento controllate dal programma.
Fasi del programma di riscaldamento non inferiori a 9 fasi. Precisione del controllo della temperatura entro ±1°C.
B. Raccolta dati
Raccolta automatica della temperatura del forno e della temperatura impostata, con generazione di curve per la revisione.
Funzione di raccolta dati dell'apparecchiatura conforme al protocollo OPC UA.
C. Sicurezza
Il sistema di controllo include: controllo dell'alimentazione, controllo della valvola del gas, protezione da allarmi anomali, ecc.


Hefei Chitherm Equipment Co., Ltd. è un fornitore di apparecchiature avanzate specializzato nella ricerca e sviluppo, progettazione, produzione, vendita, manutenzione e assistenza di forni industriali e da laboratorio ad alta, media e bassa temperatura. La sua gamma di prodotti comprende forni a campana, forni a scatola, forni ad aria calda, forni sottovuoto, forni tubolari, forni a nastro, forni a carrello, forni rotanti, forni a rulli e forni a spinta, che sono ampiamente applicati in settori come ceramiche avanzate, componenti elettronici, circuiti a film spesso, produzione additiva, metallurgia delle polveri, nuove energie e fotovoltaico. Questi forni sono adatti per processi di trattamento termico di materiali tra cui target ITO, MLCC/HTCC/LTCC, filtri ceramici, materiali magnetici, CIM/MIM e catodi e anodi per batterie al litio, nonché vari altri nuovi processi di materiali come pre-sinterizzazione, dewaxing, sgrassaggio, sinterizzazione, essiccazione, trattamento termico, polimerizzazione e ceramizzazione.

1. Quali prodotti offre Chitherm?
Forniamo ai clienti forni a campana, forni ad aria calda, forni a scatola, forni tubolari, forni sottovuoto, forni a fondo carrello, forni rotanti, forni a nastro e forni a spinta di alta qualità.
2. Quali servizi di prevendita offre Chitherm?
Offriamo servizi di consulenza tempestivi per aiutare i clienti a selezionare i prodotti più adatti, insieme a soluzioni altamente personalizzabili per soddisfare le vostre esigenze specifiche.
3. Quali sono i punti di forza principali di Chitherm?
In qualità di azienda high-tech che integra ricerca e sviluppo, produzione e vendita, Chitherm possiede tecnologie brevettate e risorse fondamentali per fornire soluzioni superiori.