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Created with Pixso. Hwf6630-10 タンク型化学気相成長(CVD)炉

Hwf6630-10 タンク型化学気相成長(CVD)炉

Brand Name: Chitherm
Model Number: Hwf6630-10
MOQ: 1
Price: 23450.26-27917.00
Delivery Time: 90営業日
Payment Terms: L/C、T/T
Detail Information
起源の場所:
中国
雰囲気:
窒素/水素/アセチレン
熱帯の寸法:
Φ660×300mm (D*H)
熱対タイプ:
b
加熱速度:
≤6°C/分
温度制御の安定性:
±1ºC
動作温度:
750°C
最高温度:
1000°C
パッケージの詳細:
木製梱包 119*175*179cm
供給の能力:
50セット
ハイライト:

化学蒸気堆積炉

,

タンク型化学気相成長(CVD)炉

,

Hwf6630-10 化学気相成長(CVD)炉

Product Description
HWF6630-10 タンク式化学蒸着炉
主な仕様
属性 価値
雰囲気 窒素/水素/アセチレン
加熱ゾーンの寸法 Φ660×300mm(D×H)
熱電対の種類 B
加熱速度 ≤6℃/分
温度制御の安定性 ±1℃
動作温度 750℃
最高温度 1000℃
製品概要

HWF6630-10タンク式蒸着炉は、電子製品の中温熱処理用に設計されています。窒素、アセチレン、水素雰囲気中で気相反応プロセスを実行し、保護雰囲気下での焼結プロセスにも使用できます。リアルタイムのコンピューター監視システムを備えたこの炉は、研究環境での材料プロセスのテストに最適です。

Hwf6630-10 タンク型化学気相成長(CVD)炉 0
技術的パラメータ
  • モデル:HWF6630-10
  • 有効チャンバーサイズ:Φ600×300mm(D×H)
  • 発熱体:ステンレス製加熱管による内部加熱
  • 処理雰囲気:窒素、水素、アセチレン
  • 加熱方法:FECセラミックファイバーヒーター
  • 温度管理ポイント:2
  • 温度安定性:±1℃、PIDパラメータセルフチューニング機能付
  • 制御方法:タッチスクリーン+PLC集中制御
  • アラーム保護:過熱と熱電対の破損に対する音と視覚によるアラーム
  • 火力:16kW
  • 電力要件:三相5線、220/380V、50Hz
  • 外形寸法:1185×1745×1780mm(幅×高さ×奥行き)
標準納品リスト
アイテム 注記
基本コンポーネント 1ユニット
検査証明書 主要な外注部品の証明書 1セット
制御盤   1ユニット
技術文書 説明書、技術文書 1セット
温度制御モジュール 山武または類似の輸入ブランド 1セット
タッチスクリーン 10インチ 1セット
マスフローメータ 窒素200L/min、その他50L/min 3個
認証
Hwf6630-10 タンク型化学気相成長(CVD)炉 1
施設要件
  • 環境条件:温度0~40℃、湿度80%RH以下、腐食性ガスのないこと
  • フロア要件:水平、重大な振動なし、耐荷重能力 >500 kg/m²
  • 電力要件:容量 >22 kVA、三相 5 線、220/380 V、50 Hz
  • 設置スペース:1500mm×1500mm×3000mm(奥行き×幅×高さ)
よくある質問
Chitherm はどのような製品を提供していますか?

高品質なベル炉、熱風炉、ボックス炉、チューブ炉、真空炉、カーボトム炉、ロータリーキルン、メッシュベルト炉、プッシャー炉をご提供いたします。

Chitherm はどのようなプリセールス サービスを提供しますか?

当社は、お客様が適切な製品を選択できるようコンサルティング サービスを提供し、特定の要件を満たすカスタマイズ可能なソリューションを提供します。

合肥チザーム設備有限公司について

当社は先端機器サプライヤーとして、工業炉・実験炉の研究開発・製造・販売を行っております。当社の製品範囲には、ベル炉、ボックス炉、真空炉、管状炉などが含まれ、先端セラミックス、電子部品、粉末冶金、新エネルギー用途などの業界に貢献しています。

Hwf6630-10 タンク型化学気相成長(CVD)炉 2