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Vakuummuffelfen
Created with Pixso. Sintern und Aufheizen Elektrischer Vakuum-Muffelfuren in Laborwärmebehandlung

Sintern und Aufheizen Elektrischer Vakuum-Muffelfuren in Laborwärmebehandlung

Brand Name: Chitherm
Model Number: HTF2550-07
MOQ: 1
Price: Verhandlungsfähig
Delivery Time: Angepasst
Payment Terms: Angepasst
Detail Information
Herkunftsort:
CHINA
Anwendungsbereich:
Industriell
Typ:
Elektrischer Halteofen
Verwendung:
Stahlformung
Kraftstoff:
Elektrisch
Atmosphäre:
Vakuum
Wirksame Dimensionen:
Ø250*500 mm
Maximal Vakuumniveau:
5×10-4PA
Transportpaket:
Holzverpackung
Spezifikation:
1200mm*1700mm*2200mm
Warenzeichen:
Chitherm
Herkunft:
CHINA
HS -Code:
8514101000
Produktionskapazität:
50 Sätze/Jahr
Verpackung Informationen:
Angepasst
Versorgungsmaterial-Fähigkeit:
Angepasst
Hervorheben:

Brennen Vakuummuffelfernen

,

Sinterung Vakuummuffelfernen

,

Gießungsschlauch-Ofenlabor

Product Description
Sintern, Glühen, elektrischer Vakuummuffelofen in der Laborwärmebehandlung
Produktspezifikationen
Attribut Wert
Anwendungsspektrum Industriell
Typ Elektrischer Warmhalteofen
Verwendung Stahlformteil
Kraftstoff Elektrisch
Atmosphäre Vakuum
Effektive Abmessungen Ø250*500mm
Maximales Vakuumniveau 5×10-4PA
Transportpaket Holzverpackung
Spezifikation 1200mm*1700mm*2200mm (B*H*T)
Warenzeichen Chitherm
Herkunft China
HS-Code 8514101000
Produktionskapazität 50 Sätze/Jahr
Produktübersicht
Sintern und Aufheizen Elektrischer Vakuum-Muffelfuren in Laborwärmebehandlung 0

Industrieller elektrischer Brennstoff Chitherm HTF2550-07 Vakuum-Wärmebehandlungsofen mit einem maximalen Vakuumniveau von 5×10-4PA.

Hefei CHITHERM Equipment Co., Ltd. ist ein fortschrittlicher Ausrüstungslieferant, der sich auf Forschung und Entwicklung, Design, Herstellung, Vertrieb, Wartung und Service von industriellen Wärmebehandlungsöfen und Versuchsöfen spezialisiert hat.

Zu unseren Produkten gehören Haubenöfen, Heißlufttrockner, Kastenöfen, Rohröfen, Vakuumöfen, Trolleyöfen, Drehrohröfen, Gitterbandöfen, Schubplattenöfen usw., die in der Hochleistungskeramik, bei elektronischen Bauteilen, bei Dickschichtschaltungen, in der additiven Fertigung, in der Pulvermetallurgie, in der neuen Energie, in der Photovoltaik und in anderen Bereichen weit verbreitet sind.

Es eignet sich für den Wärmebehandlungsprozess von ITO-Target, MLCC/HTCC/LTCC, Keramikfilter, magnetischem Material, CIM/MIM, positiver und negativer Elektrode von Lithiumbatterien sowie für Vorbrennen, Leimaustrag, Entfetten, Brennen, Trocknen, Wärmebehandlung, Aushärten, Keramikmetallisierung und andere Prozesse verschiedener neuer Materialien.

Typische Anwendungen
  • Der Sinter- und Glühprozess von elektronischen Bauteilen, Halbleiterwafern und anderen verwandten Materialien in einer Vakuumumgebung.
Technische Parameter
Nenntemperatur: 500 °C
Maximale Temperatur: 700 °C
Rohrmaterial: Quarzglas
Effektive Abmessungen: Ø250 × 500 mm (T × H)
Temperaturgleichmäßigkeit: ± 2 °C
Temperaturzonen: 3 Zonen
Länge der Temperaturzone: 300+300+300mm
Wärmeleistung: 24 kW
Isolationsleistung: <8kW
Aufheizgeschwindigkeit: <15 °C/Min
Thermoelement: Typ K
Prozessschritte: 9 Schritte
Maximales Vakuumniveau: 5 × 10-4Pa
Arbeitsvakuumniveau: 1 × 10-3Pa
Vakuumgeschwindigkeit: <60min (bis zu 5 × 10-4Pa)
Alarm: Übertemperatur, Vakuumniveau, Gasluftdruck, Motorüberlastung, vertauschte Stromleitungen usw
Ofenabmessungen: 1200 mm × 1700 mm × 2200 mm (B × H × T)