HBF52-17NO ซอฟต์แวร์การตั้งค่า หม้อตู้อุณหภูมิสูง หม้อตู้อุณหภูมิสูงที่ใช้ได้ง่าย

ขนาดโดยรวม: 1130×1945×1149 มม. (กว้าง×สูง×ลึก)

ขนาดโซนทำความร้อนที่มีประสิทธิภาพ: 350×300×500 มม. (กว้าง×สูง×ลึก)

อุณหภูมิที่กำหนด: 1650°C

อุณหภูมิสูงสุด: 1700°C

องค์ประกอบความร้อน: แท่งซิลิคอนโมลิบดีนัมรูปตัว U

จำนวนโซนอุณหภูมิ: 1

กำลังไฟทำความร้อนสูงสุด: ≤25 kW

บรรยากาศการทำงาน: อากาศหรือออกซิเจน

วิธีการระบายความร้อน: การระบายความร้อนด้วยเตาหลอมตามธรรมชาติ

แหล่งจ่ายไฟ: ≥34 kVA, สามเฟสห้าสาย (220V/380V, 50Hz)

ข้อกำหนดการจ่ายก๊าซ:

• อากาศอัดที่สะอาด แห้ง และปราศจากน้ำมัน
• ออกซิเจนบริสุทธิ์สูง (การบริโภค: 2~6 m³/ชม.)

คอมพิวเตอร์ส่วนบน: หน้าจอสัมผัส MCGS (ซอฟต์แวร์การกำหนดค่า, อินเทอร์เฟซที่เป็นมิตรกับผู้ใช้)

คอมพิวเตอร์ส่วนล่าง: ตัวควบคุมอุณหภูมิ Azbil C1A series + Siemens PLC

คุณสมบัติ: การเก็บรวบรวมข้อมูลและการส่งผ่านพารามิเตอร์แบบเรียลไทม์, ความเสถียรสูง, เหมาะสำหรับการทำงานต่อเนื่องในระยะยาว

การติดตั้งภายในอาคาร, อุณหภูมิแวดล้อม: 0°C ถึง 40°C

ไม่มีก๊าซหรือไอระเหยที่ติดไฟได้ กัดกร่อน

พื้นที่: ≥5 m²

พื้นที่ทำงาน: ความยาว ≥2.5 ม., ความกว้าง ≥2 ม., ความสูง ≥3 ม.

ฐานรากต้องแข็งแรงและได้ระดับ น้ำหนักรวมของอุปกรณ์ประมาณ 850 กก.

สายไฟสามเฟสห้าสายโดยเฉพาะ (380±10% V, 50±2% Hz)

หลีกเลี่ยงการใช้วงจรกับอุปกรณ์กำลังสูง (เช่น เครื่องเชื่อม เครื่องมือเครื่องจักร)

ต้องต่อสายดินอย่างน่าเชื่อถือ

แรงดันก๊าซเข้า: 0.2-0.4 MPa

• การใช้งานอย่างปลอดภัย: อุปกรณ์อุณหภูมิสูงต้องดำเนินการอย่างเคร่งครัดตามขั้นตอนเพื่อหลีกเลี่ยงการไหม้หรืออันตรายจากไฟฟ้า
• การบำรุงรักษา: ตรวจสอบองค์ประกอบความร้อน ท่อส่งก๊าซ และสถานะระบบควบคุมเป็นประจำ
• การปรับตัวเข้ากับสิ่งแวดล้อม: ตรวจสอบให้แน่ใจว่ามีการระบายอากาศที่ดีเพื่อป้องกันความร้อนสะสมซึ่งส่งผลต่ออายุการใช้งานของอุปกรณ์

Hefei Chitherm Equipment Co., Ltd. เป็นซัพพลายเออร์อุปกรณ์ขั้นสูงที่เชี่ยวชาญด้านการวิจัยและพัฒนา ออกแบบ ผลิต ขาย บำรุงรักษา และบริการเตาหลอมอุตสาหกรรมและเตาหลอมในห้องปฏิบัติการอุณหภูมิสูง กลาง และต่ำ

กลุ่มผลิตภัณฑ์ของเราประกอบด้วยเตาหลอมแบบระฆัง เตาหลอมแบบกล่อง เตาหลอมลมร้อน เตาหลอมสุญญากาศ เตาหลอมแบบท่อ เตาหลอมสายพานตาข่าย เตาหลอมแบบบ็อกกี้ เตาหลอมแบบหมุน เตาหลอมแบบลูกกลิ้ง และเตาหลอมแบบผลัก ซึ่งมีการนำไปใช้อย่างกว้างขวางในสาขาต่างๆ เช่น เซรามิกขั้นสูง ส่วนประกอบอิเล็กทรอนิกส์ วงจรฟิล์มหนา การผลิตแบบเติมแต่ง โลหะวิทยาผง พลังงานใหม่ และโฟโตโวลตาอิก

เตาหลอมเหล่านี้เหมาะสำหรับกระบวนการบำบัดความร้อนของวัสดุต่างๆ รวมถึงเป้าหมาย ITO, MLCC/HTCC/LTCC, ตัวกรองเซรามิก, วัสดุแม่เหล็ก, CIM/MIM และแคโทดและแอโนดแบตเตอรี่ลิเธียม รวมถึงกระบวนการวัสดุใหม่อื่นๆ เช่น การเผาผนึกเบื้องต้น การขจัดแว็กซ์ การขจัดไขมัน การเผาผนึก การอบแห้ง การอบชุบด้วยความร้อน การบ่ม และการเซราไมเซชัน