Forno Rotativo de Quartzo para Limpeza Industrial 1050C para Sinterização Cerâmica

O Forno Rotativo Limpo Chitherm 1050°C RTF3042-0611 oferece soluções customizáveis ​​para diversas aplicações industriais com controle preciso de temperatura e aquecimento uniforme.

• Temperatura Máxima:1000ºC
• Temperatura operacional:TA~900°C
• Tamanho real do tubo do forno:Φ300mm×4230mm
• Comprimento da zona de aquecimento:2770 mm
• Zonas de temperatura:6 zonas com termopar tipo K
• Precisão do controle de temperatura:±1°C
• Método de controle:Controlador de temperatura Shimaden (Japão) com taxa de aquecimento ajustável
• Método de aquecimento:Aquecedor FEC infravermelho distante
• Atmosfera do Forno:Ar
• Método de resfriamento:Resfriamento de ar
• Sistema de controle:Controlador de temperatura inteligente de loop único importado com ajuste automático PID
• Proteção de alarme:Alarmes sonoros/visuais para quebra de termopar e superaquecimento
• Aumento da temperatura da superfície:≤35°C

• Zona de resfriamento de transição:1 zona (840 mm de comprimento)
• Zona de aquecimento:6 zonas (2770 mm de comprimento), faixa de temperatura RT~900°C

• Atmosfera de Trabalho:Ar comprimido limpo, seco e isento de óleo (vazão de 0,4~0,8Mpa, 3~7m³/h)
• Atmosfera Controlada:1 caminho com controle de medidor de vazão de rotor de vidro

• Instalação interna com faixa de temperatura ambiente de -15°C a 45°C
• O ambiente deve estar livre de gases inflamáveis, corrosivos e vapor
• Área mínima de piso: 24m² com área de trabalho de 8m de comprimento x 3m de largura x 3m de altura
• É necessária uma base robusta e nivelada (peso total do forno: ~2100kg)
• Fonte de alimentação: CA trifásica de cinco fios 380 ± 10% V, linha dedicada de 50 ± 2% Hz
• Equipamentos proibidos no mesmo circuito: máquinas de soldar, fornos elétricos, máquinas de corte de metal
• Aterramento confiável obrigatório