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Forno de caixa de alta temperatura
Created with Pixso. Forno de deposição química de vapor (CVD) tipo Mbf100-10 para tratamento térmico em temperatura média

Forno de deposição química de vapor (CVD) tipo Mbf100-10 para tratamento térmico em temperatura média

Brand Name: Chitherm
MOQ: 1
Price: Negociável
Delivery Time: Personalizado
Payment Terms: Personalizado
Detail Information
Lugar de origem:
CHINA
Modelo no.:
MBF100-10
Gama de aplicações:
Industrial
Tipo:
Furno de retenção elétrica
Uso:
Sinterização de cerâmica
Combustível:
Elétrico
Atmosfera:
Ar/O2
Dimensões eficazes da câmara:
450*450*500mm ((W*H*D)
Pacote de transporte:
Embalagem de madeira
Especificação:
990*1680*1095mm
Marca registrada:
Chitherm
Origem:
CHINA
Código HS:
8514101000
Habilidade da fonte:
50 conjuntos/ano
Personalização:
Disponível
Certificação:
ISO
Estilo de lugar:
Vertical
Detalhes da embalagem:
Personalizado
Habilidade da fonte:
Personalizado
Destacar:

Forno CVD de temperatura média

,

Forno de tratamento térmico MBF100-10

,

Forno caixa de deposição química de vapor

Product Description
Forno de câmara limpa de média temperatura MBF100-10
Especificações do produto
Atributo Valor
Modelo NÃO. MBF100-10
Gama de aplicações Industrial
Tipo Forno de retenção elétrico
Uso Sinterização Cerâmica
Combustível Elétrico
Atmosfera Ar/O2
Dimensões efetivas da câmara 450*450*500mm (L*A*P)
Pacote de Transporte Embalagem de madeira
Especificação 990*1680*1095mm
Marca registrada Chitherm
Origem China
Código HS 8514101000
Capacidade de fornecimento 50 conjuntos/ano
Personalização Disponível
Certificação ISO
Estilo de lugar Vertical
Especificações Técnicas
  • Temperatura nominal:900ºC
  • Temperatura Máxima:1000ºC
  • Material do forro interno:Quartzo fundido
  • Tamanho Efetivo:450×450×500mm (Largura×Altura×Profundidade)
  • Taxa de aquecimento:≤10ºC/min
  • Elemento de aquecimento:Placa de aquecimento de fibra cerâmica FEC, aquecimento de quatro lados
  • Estabilidade de controle de temperatura:±1ºC, com autoajuste dos parâmetros PID
  • Uniformidade de temperatura:±5ºC (testado em forno vazio a 900ºC)
  • Tipo de termopar:Graduação K
  • Pontos de controle de temperatura:1 ponto
  • Segmentos de controle de temperatura:9 segmentos
  • Chaminé de exaustão:Porta de escape ajustável na cauda
  • Projeto de entrada de ar:Controlado por rotâmetro de vidro (10-100LPM)
  • Alarme e Proteção:Alarmes sonoros/luminosos para temperatura excessiva, quebra de termopar
  • Potência Máxima de Aquecimento:16kW
  • Poder típico de preservação de calor:≤8kW
  • Aumento da temperatura da superfície: <35ºC
  • Peso do equipamento:Aproximadamente 450Kg
  • Cor Externa:Cinza claro
  • Dimensões de referência:990×1680×1095mm (Largura×Altura×Profundidade)
Esquema do Equipamento
Forno de deposição química de vapor (CVD) tipo Mbf100-10 para tratamento térmico em temperatura média 0
Lista de entrega
Item Observação Quantidade
Composições Básicas Forno 1 unidade
Certificados de Inspeção Forno e principais componentes adquiridos 1 conjunto
Documentos Técnicos Especificações do forno, documentos técnicos 1 conjunto
Peças principais Tela sensível ao toque 1 unidade
Controlador de temperatura 1 conjunto
Aquecedor FEC 1 conjunto
Forro de quartzo 1 conjunto
Peças sobressalentes RSS 1 unidade
Requisitos de instalação
  • Condições ambientais:Temperatura 0 - 40ºC, umidade ≤ 80% RH, sem gás corrosivo, sem forte perturbação do fluxo de ar
  • Condições da fonte de gás:Ar comprimido limpo, seco e isento de óleo ou oxigênio (0,2-0,4 MPa, 3-6 m³/h)
  • Sistema de ventilação:Capacidade de extração > 10 m³/h
  • Requisitos de terreno:Nível, sem vibração, capacidade de carga > 500Kg/m²
  • Condições de energia:>22kVA, 3 fases 5 linhas, 220/380V, 50Hz
  • Local de instalação:2.000 mm × 2.000 mm × 3.000 mm (L × A × P), área >4m²
Imagens do produto
Forno de deposição química de vapor (CVD) tipo Mbf100-10 para tratamento térmico em temperatura média 1 Forno de deposição química de vapor (CVD) tipo Mbf100-10 para tratamento térmico em temperatura média 2 Forno de deposição química de vapor (CVD) tipo Mbf100-10 para tratamento térmico em temperatura média 3 Forno de deposição química de vapor (CVD) tipo Mbf100-10 para tratamento térmico em temperatura média 4 Forno de deposição química de vapor (CVD) tipo Mbf100-10 para tratamento térmico em temperatura média 5