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| Brand Name: | Chitherm |
| Model Number: | HWF80-04N |
| MOQ: | 1 |
| Price: | 交渉可能 |
| Delivery Time: | 90営業日 |
| Payment Terms: | T/T、L/C |
| 属性 | 値 |
|---|---|
| 型番 | HWF80-04N |
| タイプ | 電気保持炉 |
| 用途 | セラミック焼結 |
| 燃料 | 電気 |
| 雰囲気 | 真空/窒素 |
| 有効チャンバー寸法 | 400*400*500mm(W*H*D) |
| 最高温度 | 400℃ |
| 最大加熱電力 | 15kw |
| アイドル炉断熱電力 | ≤7.5kw |
| 温度制御精度 | ±1℃ |
| 熱電対タイプ | K型 |
| 輸送パッケージ | 木製包装 |
| 仕様 | 1500*1950*1750mm(W*H*D) |
| 商標 | Chitherm |
| 原産地 | 中国 |
| HSコード | 8514101000 |
| 供給能力 | 50セット/年 |
| パッケージサイズ | 1550.00cm * 1960.00cm * 1760.00cm |
| パッケージ総重量 | 1000.000kg |
| カスタマイズ | 利用可能 |
| 設置スタイル | 垂直 |
| 適用範囲 | 産業用 |
HWF80-04Nは、窒素/真空環境下での電子材料の焼結および水素除去プロセス用に特別に設計された、研究グレードの中温熱処理システムです。PLCインテリジェント制御とリアルタイム監視システムを搭載し、材料プロセスの研究開発に対する高精度な要求に応えます。
| パラメータ | 仕様 |
|---|---|
| 有効作業領域 | 400(W)×400(H)×500(D)mm |
| 定格温度 | 350℃（真空）/ 250℃（窒素） |
| 最高温度 | 400℃（真空のみ） |
| 温度均一性 | ±5℃（350℃で1時間、空炉時） |
| 温度制御精度 | ±1℃（PID自動調整） |
| 加熱速度 | ≤5℃/分（プログラム可能） |
| パラメータ | 仕様 |
|---|---|
| 適用可能な雰囲気 | 高純度窒素（≤250℃）、真空（最大400℃） |
| 真空リーク率 | ≤0.67Pa/h |
| アラーム保護 | 過熱/熱電対故障/水圧不足/真空異常に対する音声および視覚アラーム |
| 項目 | 注記 | 数量 |
|---|---|---|
| 基本コンポーネント | 炉 | 1台 |
| 検査証明書 | 主要な外注コンポーネントの証明書 | 1セット |
| 技術文書 | 取扱説明書、主要な外注部品の技術文書など | 1セット |
| 主要コンポーネント | 発熱体 | 抵抗線プリビルド加熱プレート |
| メカニカルポンプ | Busch DRV60 | 1台 |
| 分子ポンプ | Zhongke Keyi FF-200 | 1台 |
| 真空計+レギュレーター | Ruibao | 1セット |
| 酸素分析計 | Nanoaonai | 1台 |
| タッチスクリーン | 1台 | |
| 質量流量計 | 精密測定 | 1台 |
| 温度コントローラー | Azbilまたは同等ブランド | 1セット |
| 熱電対 | K型 | 3個 |
| PLC | SIEMENSまたは同等ブランド | 1台 |
| スペアパーツ | SSR | 1個 |
| シーリングリング | フッ素ゴム | 1個 |
参考寸法：1500×1950×1750mm（W×H×D）、実際の寸法は製品仕様によります。
環境条件：温度0〜40℃、湿度≤80％RH、腐食性ガスなし、強い気流の乱れなし。
窒素条件：ガス源圧力0.2〜0.4 MPa、純度99.999％、ガス消費量2〜6 m³/h。
換気ガス源条件：清浄、乾燥、無油の圧縮空気、圧力0.4〜0.8 MPa。
給水条件：0.1〜0.3 MPa、清浄、非腐食性、供給流量1〜3 L/min。
換気システム：ユーザーの排気システムへの非接触接続、排気能力10 m³/h以上。
床の要件：水平、大きな振動なし、耐荷重>500 kg/m²。
電源条件：容量22 kVA以上、3相5線式、電圧220/380 V、周波数50 Hz。活線：黄色、緑色、赤色; 中性線：青色; 接地線：黄緑色。
設置場所：3000×2500×3000mm（D×W×H）、設置面積8 m²以上。
