1100 ordm Max Temp HWF160-10NH Vacuüm Atmosphere Tankoven voor temperatuursinternen in industriële toepassingen

Deze oven is ontworpen voor soldeerprocessen van metalen onderdelen en HTCC-pakketten, met aanvullende toepassingen zoals ontkolen, gloeien, afschrikken, verschroeien, harden en thermische ontleding.

• Nominale Temperatuur: 900°C
• Maximum Temperatuur: 1100°C
• Atmosfeer Opties: N2, H2 met bevochtiging
• Zuurstofgehalte Meting: O2-gehalte-analysator
• Moffel Materiaal: SUS 310S
• Moffel Afmetingen: φ750mm×900mm(d×D)
• Effectieve Kamer Afmetingen: 500×500×650mm(B×H×D)
• Laadmethode: Handmatig via horizontale geleidingsplanken
• Verwarmingsmethode: Weerstandsdraad voorgebouwde verwarmingsplaat
• Koelmethode: Luchtkoeling met ventilator
• Temperatuurregeling Stabiliteit: ±1°C (controller met P.I.D-functie)
• Profielstappen: Standaard 20 stappen
• Temperatuur Uniformiteit: ±5°C
• Thermocouple: Type K
• Temperatuurregeling Punten: 3
• Temperatuurmeetpunten: 1
• Maximaal Verwarmingsvermogen: 40kW
• Typisch Isolatievermogen: ≤25kW
• Verwarmingssnelheid: ≤5°C/min
• Oven Oppervlaktetemperatuur: ≤40°C
• Maximale Vacuümwaarde: ≤10Pa
• Uitlaatsysteem: 1 uitlaatpoort aan de bovenkant met H2-ontsteker
• Alarmsysteem: Hoorbare en visuele alarmen voor overtemperatuur, thermocouple-fout, lage lucht/waterdruk en onvoldoende vacuümniveau
• Gewicht: 1500kg
• Uiterlijk Kleur: Lichtgrijs
• Externe Afmetingen: 1650mm×1950mm×2000mm (B×H×D)

• Omgevingscondities: Temperatuur 0~40°C, vochtigheid ≤80%RH, geen corrosief gas, geen sterke luchtstroomstoring
• N2 Condities: 99,999% zuiverheid, werkdruk: 0,2-0,4MPa, Max gasverbruik 2-6 m³/u
• H2 Condities: Werkdruk: 0,2-0,4MPa, Max gasverbruik 1-3m³/u
• Persluchtconditie: Droog, schoon, olievrij, werkdruk: 0,4-0,8MPa
• Watercondities: Schoon, geen corrosief water, werkdruk 0,1-0,3MPa, 3-9L/min
• Ventilatiesysteem: Contactloze toegang tot gebruikerspompsysteem, pompcapaciteit >15m³/u
• Grondvereisten: Horizontaal, geen duidelijke trillingen, draagvermogen >500 kg/m²
• Stroomconditie: Capaciteit >55kVA, 3-fasen 5-draden, spanning 220/380V, frequentie 50Hz
• Installatieplaats: 3000mm×2500mm×3000mm(D×B×H), installatieoppervlak >7,5m²

Hefei Chitherm Equipment Co., Ltd. is gespecialiseerd in onderzoek, ontwikkeling, ontwerp, productie, verkoop, onderhoud en service van industriële ovens voor hoge-, midden- en lage temperaturen en laboratoriumovens. Ons productassortiment omvat klokovens, doosovens, heteluchtovens, vacuümovens, buisovens, gaasbandovens, wagenbodemovens, roterende ovens, rollenbaanovens en duwovens.

Deze producten worden veel gebruikt in geavanceerde keramiek, elektronische componenten, dikke-film circuits, additieve fabricage, poedermetallurgie, nieuwe energie en fotovoltaïsche systemen. Ze zijn geschikt voor thermische behandelingsprocessen van materialen, waaronder ITO-targets, MLCC/HTCC/LTCC, keramische filters, magnetische materialen, CIM/MIM en lithium-batterij kathodes en anodes, evenals diverse andere nieuwe materiaalprocessen zoals voorsinteren, ontwaxen, ontvetten, sinteren, drogen, warmtebehandeling, uitharden en keramiseren.